制藥網(wǎng)
詳細(xì)介紹
主要優(yōu)勢
·在自然狀態(tài)下對材料進(jìn)行原位研究：具有環(huán)境真空模式（ESEM）的*高分辨率場發(fā)射掃描電鏡
·縮短樣品制備時(shí)間：低真空和環(huán)境真空技術(shù)可針對不導(dǎo)電和/或含水樣品直接成像和分析，樣品表面無荷電累積
·在各種操作模式下分析導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品， 同步獲取二次電子像和背散射電子像
·安裝原位冷臺、珀?duì)柼渑_和熱臺，可在-165°C 到1400°C 溫度范圍內(nèi)進(jìn)行原位分析
·的分析性能，樣品倉可同時(shí)安裝三個(gè)EDS 探測器，其中兩個(gè)EDS端口分開180°、 WDS 和共面 EDS/EBSD
·針對不導(dǎo)電樣品的分析性能：憑借“壓差真空系統(tǒng)"實(shí)現(xiàn)低真空模式下的精確EDS 和EBSD 分析
·靈活、精確的優(yōu)中心樣品臺，105°傾斜角度范圍，可觀察樣品
·軟件直觀、簡便易用，并配置用戶向?qū)Ъ癠ndo（撤銷）功能，操作步驟更少，分析更快速
·全新創(chuàng)新選項(xiàng)，包括可伸縮RGB 陰極熒光（CL）探測器、1100°C 高真空熱臺和AutoScript（基于Python 的腳本工具API）
·在自然狀態(tài)下對材料進(jìn)行原位研究：具有環(huán)境真空模式（ESEM）的*高分辨率場發(fā)射掃描電鏡
·縮短樣品制備時(shí)間：低真空和環(huán)境真空技術(shù)可針對不導(dǎo)電和/或含水樣品直接成像和分析，樣品表面無荷電累積
·在各種操作模式下分析導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品， 同步獲取二次電子像和背散射電子像
·安裝原位冷臺、珀?duì)柼渑_和熱臺，可在-165°C 到1400°C 溫度范圍內(nèi)進(jìn)行原位分析
·的分析性能，樣品倉可同時(shí)安裝三個(gè)EDS 探測器，其中兩個(gè)EDS端口分開180°、 WDS 和共面 EDS/EBSD
·針對不導(dǎo)電樣品的分析性能：憑借“壓差真空系統(tǒng)"實(shí)現(xiàn)低真空模式下的精確EDS 和EBSD 分析
·靈活、精確的優(yōu)中心樣品臺，105°傾斜角度范圍，可觀察樣品
·軟件直觀、簡便易用，并配置用戶向?qū)Ъ癠ndo（撤銷）功能，操作步驟更少，分析更快速
·全新創(chuàng)新選項(xiàng)，包括可伸縮RGB 陰極熒光（CL）探測器、1100°C 高真空熱臺和AutoScript（基于Python 的腳本工具API）
樣品臺和樣品
優(yōu)化的檢測系統(tǒng)適用于各種真空模式
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