反滲透純水設(shè)備的介紹。水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎*去除,同時不離解的氣體、膠體以及有機(jī)物(包括細(xì)菌)也去除至很低程度的水。組成部分是反滲透膜元件、壓力容器、高壓泵、配以合理而又高效的前處理設(shè)備及后處理精脫鹽設(shè)備。
反滲透純水設(shè)備的參數(shù)產(chǎn)水量:0.5m3/H-100m3/H、回收率:75%;操作壓力:0.6Pa-1.5Mpa。產(chǎn)水電導(dǎo)率一般為0.1~0.055uS/cm,出水電阻率:0.5-15MΩ.CM;含鹽量<0.1㎎/L.理想純水(理論上)電導(dǎo)率為0.055 uS/cm。工藝是:源水→源水泵→機(jī)械過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→一級反滲透膜→二級反滲透膜→TOC脫出器→EDI系統(tǒng)。工藝特色是
1.低壓開關(guān)保護(hù)高壓泵不會因供水停止而損壞;
2.高效率、低噪音的高壓泵,降低運行噪音,減少耗電。脫鹽率高,運行壓力低的卷式復(fù)合膜提高了產(chǎn)水水質(zhì)及降低運行成本,且使用壽命長;
3.產(chǎn)水、濃水各設(shè)有流量計以監(jiān)視并調(diào)節(jié)運行出水量及系統(tǒng)回收率。產(chǎn)水電導(dǎo)率表連續(xù)監(jiān)視產(chǎn)水水質(zhì)。
4.污染物去除率脫鹽率:99.8% 有機(jī)物去除率:>150MW 細(xì)菌隔除率:>99% 熱原去除率:>99% 顆粒去除率:>99% 進(jìn)水要求:污染指數(shù)(SDI):<5 余氯:<0.1mg/L PH:5-8 水溫:4°-40℃。
應(yīng)用:
1、半導(dǎo)體材料、超導(dǎo)器件、印刷電路板和集成電路成品、清洗使用用純水;
2、超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水;
3、實驗室和中試車間用超純水;
4、汽車配件、電鍍表面拋光沖洗使用純水;
5、光學(xué)微電子產(chǎn)品沖洗使用純水;
6、超純材料和超純化學(xué)試劑生產(chǎn)使用純水;
7、實驗室和中試車間生產(chǎn)及沖洗使用純水;
8、精細(xì)化學(xué)品生產(chǎn)使用純水;
9、食品飲料、食品添加劑生產(chǎn)使用純水;
10、制藥行業(yè)使用純水;
11、其他新興產(chǎn)品需要超高純水清洗用的純水等。