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詳情介紹：
該電子束蒸發(fā)方式鍍膜儀，主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜。
電子束蒸發(fā)鍍膜儀設(shè)備技術(shù)參數(shù)
| 使用條件 | 環(huán)境溫度 | 5℃～40℃ |
| 電源 | 380V | |
| 功率 | ≤20KW | |
| 水壓 | ≤2.5bar | |
| 真空室尺寸 | 蒸發(fā)室尺寸 | φ500×H500(㎜) |
| 過(guò)渡倉(cāng)庫(kù) | φ280×H300(㎜) | |
| 電子槍 | 新型電子槍1套，6穴坩堝 | |
| 離子源 | 考夫曼離子源K08一套 | |
| 樣品轉(zhuǎn)盤 | 樣品尺寸：≤φ150mm，樣品可旋轉(zhuǎn)，也可上下升降調(diào)節(jié)樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設(shè)計(jì)),加熱溫度≤500℃ | |
| 系統(tǒng)真空度 | 極限真空 | 經(jīng)12～24小時(shí)烘烤，連續(xù)抽氣≤5x10-5Pa |
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| 抽氣速率 | 從大氣開(kāi)始40分鐘內(nèi)真空度≤5x10-4Pa |
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| 系統(tǒng)漏率 | 整機(jī)漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后，測(cè)量真空室真空度≤10Pa |
| 抽真空系統(tǒng) | TY1200分子泵+機(jī)械泵(VRD-30)系統(tǒng)，并設(shè)置旁路抽氣 | |
| 鍍膜監(jiān)測(cè) | 采用TM160膜厚儀進(jìn)行監(jiān)測(cè) | |
| 鍍膜厚度的不均勻度 | ≤3% | |
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