噴霧熱解是通過在加熱的表面上噴射溶液來沉積薄膜的過程,其中組分反應(yīng)形成化合物。該方法對于氧化物的沉積特別有用,并且*以來一直是將氧化錫(SnO2)或氧化錫的透明導(dǎo)電體施加到玻璃基板上的制造方法。現(xiàn)在這種技術(shù)越來越多地用于制備鈣鈦礦薄膜和電池電極。
高通量噴霧熱解系統(tǒng)技術(shù)參數(shù):
電源輸入 | ? 208 - 240VAC, 50/60Hz ,單相 ? 總共3000W in total |
噴嘴 | ? 包括兩個噴嘴 § 用于厚膜涂層的壓縮空氣噴嘴 § 超聲波噴頭(壓縮空氣輔助),150W 120Khz發(fā)生器,溶液粘度< 30 cps. ? 包括一個數(shù)字FMC,用于在噴嘴的恒定壓力下輸送壓縮氣體。
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注射泵
| ? 包括四個注射泵。三個用于混合和涂覆的溶液,一個用于清潔D水。 ? 標(biāo)準(zhǔn)注射器容量:60毫升(其他容量可用) ? 線速度范圍:1μm/ min -120 mm / min可調(diào)(流速=線速度×注射器橫截面積) ? 精度:≤±0.5%(當(dāng)> 30%FS時) ? 控制:注射泵由自動數(shù)字控制面板或主觸摸屏控制面板控制 |
溶液混合 | ? 在噴涂之前,將三種類型的溶液混合并分散在小容器中。 ? 容器szie:Φ25×100mmH(~50ml) ? 刀片攪拌速度:120 RPM |
可加熱真空室 | ? 腔室由不銹鋼制成 ? 腔室尺寸:650×600×500mm ? Max.真空極限:通過機(jī)械泵可達(dá)20托,包括機(jī)械泵。 ? 溫度控制由30段可編程控制器控制,溫度為+/- 10℃。
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處理平臺 | ? X-Y-Z移動機(jī)制內(nèi)置于真空室內(nèi),可將噴嘴帶到所需的位置進(jìn)行局部涂層。 § 行程距離:( X-Y軸) 200 mm Max Z軸: 60 mm Max. § 行程速度:1mm/s - 12mm/s ? 在腔室的底部內(nèi)置有一組帶有36個圓柱模板的基板。 ? 標(biāo)準(zhǔn)圓柱模板尺寸:直徑18毫米。其他尺寸可根據(jù)要求提供。 ? 加熱板安裝在基板的底部,用于熱解處理。 § 溫度范圍: RT - 500℃Max. ( < 30分鐘) § 溫度均勻度:≤±5℃ |
控制單元
| ? 7"觸摸屏控制面板安裝在腔室前部,可編程和控制所有噴涂參數(shù)。 ? 真空時間和惰性氣體吹掃時間是可編程的。 ? 三個注射泵到每個圓筒面罩的流速和噴涂時間可編程,形成不同的成分,并自動進(jìn)行36位涂布。 ? 128個配方可以存儲在控制面板中,自動實現(xiàn)一鍵操作。 ? 手動操作模式可實現(xiàn)點對點涂層。 ? 可應(yīng)要求提供額外收費的PC操作軟件 |
尺寸 | 1100L×730W×1500 H mm |
凈重 | 1000 Kg |
保修 | 一年有限保修,終身支持。(購買前可演示) |
警告 | 腔室中的大壓力為0.02 Mpa。腔內(nèi)裝有壓力釋放閥,以保護(hù)過壓。 |
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