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武漢市卉春兄弟汽車配件有限公司
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產(chǎn)品型號三氮唑
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地武漢市
聯(lián)系方式:杜小酒查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間:2020-02-28 15:11:31瀏覽次數(shù):486次
聯(lián)系我時(shí),請告知來自 制藥網(wǎng)CAS號 | 16691-43-3 | 產(chǎn)地 | 國產(chǎn) |
---|---|---|---|
分子式 | C2H4N4S | 規(guī)格 | 原料 |
級別 | 化工級 | 證書 | 其他 |
3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑
名稱:3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑
別名:5-巰基-3-氨基-1,2,4-三氮唑
性狀:白色或灰白色粉末,不溶于水
定義:3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑通常對水體是稍微有害的,不要將未稀釋或大量產(chǎn)品接觸地下水,水道或污水系統(tǒng),未經(jīng)政府許可勿將材料排入周圍環(huán)境。
CAS:16691-43-3
分子式:C2H4N4S
分子量:116.
3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑
名稱:3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑
別名:5-巰基-3-氨基-1,2,4-三氮唑
性狀:白色或灰白色粉末,不溶于水
定義:3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑通常對水體是稍微有害的,不要將未稀釋或大量產(chǎn)品接觸地下水,水道或污水系統(tǒng),未經(jīng)政府許可勿將材料排入周圍環(huán)境。
CAS:16691-43-3
分子式:C2H4N4S
分子量:116.14
用途:醫(yī)藥、農(nóng)藥中間體
3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑可用作醫(yī)藥化工合成中間體。如果吸入3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑,請將患者移到新鮮空氣處;如果皮膚接觸,應(yīng)脫去污染的衣著,用肥皂水和清水*沖洗皮膚,如有不適感,就醫(yī);如果眼晴接觸,應(yīng)分開眼瞼,用流動(dòng)清水或鹽水沖洗,并立即就醫(yī);如果食入,立即漱口,禁止催吐,應(yīng)立即就醫(yī)。
結(jié)構(gòu)
應(yīng)用[1-4]
3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑可用作醫(yī)藥化工合成中間體。其應(yīng)用舉例如下:
1. 用于制備一種光刻膠清洗液,
在通常的LED和半導(dǎo)體制造工藝中,通過在一些材料的表面上形成光刻膠的掩膜,曝光后進(jìn)行圖形轉(zhuǎn)移,在得到需要的圖形之后,進(jìn)行下一道工序之前,需要?jiǎng)內(nèi)埩舻墓饪棠z。在這個(gè)過程中要求*除去不需要的光刻膠,同時(shí)不能腐蝕任何基材。目前,光刻膠清洗液主要由極性有機(jī)溶劑、強(qiáng)堿和/或水等組成,通過將半導(dǎo)體晶片浸入清洗液中或者利用清洗液沖洗半導(dǎo)體晶片,去除半導(dǎo)體晶片上的光刻膠。
有研究開發(fā)一種新的光刻膠清洗液,該清洗液為非水性的低蝕刻清洗液。其含有:醇胺、3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑和助溶劑。這種光刻膠清洗液可以用于LED和半導(dǎo)體中光刻膠去除,同時(shí)對于基材基本沒有攻擊如金屬鋁等,更為特出的是該體系具有較強(qiáng)的耐水性,拓寬了其操作窗口,在LED和半導(dǎo)體晶片清洗等領(lǐng)域具有良好的應(yīng)用前景。
2. 用于制備一種腈綸螯合纖維AMTF及變色纖維AMTF-PAR,
螯合纖維是一類以纖維狀聚合物為載體,連接特殊功能基從而與特定物質(zhì)螯合以實(shí)現(xiàn)分離的功能高分子,是繼離子交換樹脂、離子交換纖維發(fā)展起來的一種新型高性能吸 附材料。近年來,螯合纖維在金屬離子的提取、分離、分析等方面的研究成為分離科學(xué)領(lǐng)域 的研究熱點(diǎn)。腈綸螯合纖維AMTF的合成方法如下:以腈綸纖維為母體,以3-氨基-5-巰基-1,2,4三氮唑?yàn)榕潴w,在氮?dú)獗Wo(hù)條件下,得到腈綸螯合纖維AMTF。
將腈綸螯合纖維AMTF和PAR置入甲醛水溶液中,在氮?dú)獗Wo(hù)條件下攪拌加熱回流3-5h,于70oC攪拌反應(yīng)結(jié)束,用溫水沖洗后,干燥恒重,得到顯色纖維AMTF-PAR。本發(fā)明合成的腈綸螯合纖維AMTF具有重金屬離子吸附能力,其中,對銅離子、汞離子有較強(qiáng)的選擇吸附性,吸附量大,吸附速度快;本發(fā)明合成的腈綸顯色纖維AMTF-PAR具有足夠的拉伸斷裂強(qiáng)度以滿足實(shí)際應(yīng)用需求,可以適用于不同環(huán)境下的檢測,能夠制成不同形態(tài)的顯色材料。
3. 用于制備一種用于半導(dǎo)體晶圓的光刻膠清洗液,
目前,光刻膠清洗液主要由極性有機(jī)溶劑、強(qiáng)堿和/或水等組成,通過將半導(dǎo)體晶 片浸入清洗液中或者利用清洗液沖洗半導(dǎo)體晶片,去除半導(dǎo)體晶片上的光刻膠。將晶片浸入該清洗液中,在40-90℃下除去金屬和電介質(zhì)基材上的厚膜光刻膠,其對半導(dǎo)體晶片基材 的腐蝕較高。隨著半導(dǎo)體的快速發(fā)展,特別是凸球封裝領(lǐng)域的發(fā)展,對光刻膠殘留物的清洗 要求也相應(yīng)提高;主要是隨著在單位面積上引腳數(shù)(I/O)越來越多,光刻膠的去除也變得越來越困難。
有研究開發(fā)一種用于半導(dǎo)體晶圓的光刻膠清洗液,包括以下質(zhì)量百分比的原料:季銨氫氧化物32-36%、醇胺14-18%、六元醇6-8%、3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑0.1-1%、表面活性劑22-26%,其余為助溶劑。與現(xiàn)有技術(shù)相比,選用合適的季銨氫氧化物/醇胺的比例有利于協(xié)調(diào)光刻膠去除能力和金屬微球的防腐蝕;采用了六元醇對金屬鋁和銅同時(shí)具有較強(qiáng)的腐蝕抑制能力;采用了醇胺作為溶劑溶解氫氧化鉀,去除能力強(qiáng)。
4. 用于制備一種改性二氧化硅納米顆粒吸附劑。
二氧化硅納米材料由于具有 高比表面積、成本廉價(jià)、易于合成改性、綠色環(huán)保等優(yōu)點(diǎn),是吸附劑材料的理想之選。首先將納米二氧化硅顆粒和3-縮水甘油基氧基丙基*氧基硅烷混合均勻,然后加入到無水乙醇溶液中,回流反應(yīng)后離心分離,取出固體物質(zhì),產(chǎn)物標(biāo)記為GPTMS-SNPs;將GPTMS-SNPs加入到無水乙醇溶液中,加入聚乙烯亞胺,回流反應(yīng)后離心分離得到的產(chǎn)物標(biāo)記為PEI-SNPs。
將PEI-SNPs加入到二甲基甲酰胺中,加入氯乙酰氯,回流反應(yīng)后離心分離取出固體物質(zhì),記為CAC-SNPs;將乙醇和水混合均勻得到混合溶液,將CAC-SNPs加入到混合溶液中,然后加入3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑,回流反應(yīng)離心分離,得到改性二氧化硅納米顆粒吸附劑。本方法原材料廉價(jià),制備工藝簡單,易與水溶液分離,具有高吸附性且可循環(huán)使用。
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