干燥設備 粉碎設備 混合設備 反應設備 過濾分離設備 過濾材料 滅菌設備 萃取設備 貯存設備 傳熱設備 鍋爐 塔設備 結晶設備 其它制藥設備
深圳匯智環(huán)?？萍加邢薰?b class="member-infor">
深圳匯智環(huán)?？萍加邢薰?b class="member-infor">
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌其他品牌
廠商性質代理商
所 在 地深圳市
聯(lián)系方式：橋先生查看聯(lián)系方式
更新時間：2021-12-03 17:31:38瀏覽次數(shù)：383次
聯(lián)系我時，請告知來自 制藥網(wǎng)| 產(chǎn)地 | 國產(chǎn) | 產(chǎn)品新舊 | 全新 |
|---|
供應坎普爾CP-3600S EDI模塊廠家直出設備進水前，無保安過濾器或安裝時沒有*清洗管道和水箱，導致異物堵塞EDI通道，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水嚴重下降，清洗無效
供應坎普爾CP-3600S EDI模塊廠家直出
坎普爾CP-3600S EDI模塊簡介
1、電流與ED膜塊一一對應，工作電流穩(wěn)定，電壓更好控制。
2、插入式安裝結構，插接形式輸入輸出電纜。
3、LED數(shù)碼顯示，示值清晰明確。
4、斷路器作為電源開關，可保護性地斷開存在故障的電路。·輸入保護、輸出保護、軟啟動電流特性保護、超溫保護、流量保護。
坎普爾CP-3600S EDI模塊進水參數(shù)
型號：CP-3600S 電壓（V）：20~100
電流（A）：0.5~5.5 產(chǎn)品水流量（m3/hr）：0.9~1.2
濃水流量（m3/hr）：0.1~0.18 極水流量（L/hr）：60
坎普爾CP-3600S EDI模塊純水質量與電流的關系
膜塊在特定給水條件下，要獲得水質，都對應著一個電流量。若實際運行電流低于此電流，產(chǎn)品水中離子不能被*清除，部分離子被樹脂吸附，短時間內產(chǎn)水水質較好，但由于沒有足夠的由水解離產(chǎn)生的H+和OH使樹脂再生，樹脂終會被離子所飽和，當樹脂失效后，產(chǎn)水水質便會大幅下降；若實際運行電流過多地高于此電流，多余的電流會引起離子極化現(xiàn)象，同樣會使產(chǎn)品水的電阻率降低。
傳統(tǒng)EDI運行電流是有效電流的4-5倍才能保證產(chǎn)水的質量。Canpure Super EDI運行電流只需有效電流的1.5-2.0倍，運行電壓也只需傳統(tǒng)EDI運行電壓的約1/3，因此除鹽所需電量（功率）為傳統(tǒng)EDI的1/10。再考慮到Canpure Super EDI無需濃水加鹽和無需濃水循環(huán)因素，Canpure Super EDI運行費用僅約為傳統(tǒng)運行費用的1/20。
供應坎普爾CP-3600S EDI模塊廠家直出
坎普爾EDI模塊CP-3600S進水堵塞原因
設備進水前，無保安過濾器或安裝時沒有*清洗管道和水箱，導致異物堵塞EDI通道，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水嚴重下降，清洗無效；
模塊在大電流，低于額定流情況下運行，極板側積聚的熱得不到有效散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片和隔網(wǎng)先發(fā)熱變形，EDI濃水壓差增大，水和水下降，嚴重時會碳化、漏水；
模塊沒有清洗保養(yǎng)，EDI的膜片和通道結垢，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水下降，電流無法調節(jié)，電壓上升；
4.超濾或反滲透系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當，進入EDI氧化劑超，導致EDI樹脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水下降；
5.采用不當?shù)那逑春拖?，直接導致EDI樹脂破碎，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水和水全部下降；
系統(tǒng)手動運行時，在缺水狀態(tài)下加電，直接導致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化，清洗無效，無法使用。
坎普爾CP-3600S EDI模塊工作原理
EDI膜塊中將一定數(shù)的EDI單元用格板隔開，形成濃水室和淡水室。又在單元兩端設置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別透過陰陽離子交換膜遷移到濃水室而在淡水室中去除。電場使進水中的水分子在離子交換樹脂界面離解成H+及OH-，并不斷地再生淡水室中陰、陽離子交換樹脂。離子交換樹脂中的陰、陽離子在再生過程中受到相應正負電極的吸引，透過陽、陰離子交換樹脂向所對應的離子膜的方向遷移。當這些離子透過交換膜進入濃室后，H+及OH-重新結合成水。這種H+及OH-的產(chǎn)生、湮滅及陰、陽離子遷移正是離子交換樹脂得以實現(xiàn)連續(xù)再生的機理。
坎普爾CP-3600S EDI模塊EDI應用領域
1.不需要使用酸，堿，中和系統(tǒng)及樹脂罐;
2.利的“全填充"濃水室，不需要加鹽和濃水循環(huán);
3.可在7bar（100psi），45C（113℉）下連續(xù)運行;
4.雙O型圈密封保證運行無泄漏;
5.具有*的電絕緣性能;
6.運行費用遠低于傳統(tǒng)離子交換樹脂。
7.電子工用水集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗水；
坎普爾CP-3600S EDI模塊的優(yōu)勢條件
1、入水和濃水/極水逆向流動（逆流），避免結垢
2、特殊離子交換膜，交換容量高，選擇性強
3、運行無需加鹽，降低運行費用
4、各水室全填充樹脂，提高離子遷移效率，降低能耗
5、高頻整流電源，整流效果優(yōu)于可控硅
6、水路及電路置于同側，簡單美觀
坎普爾EDI模塊堵塞的解決方法
1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)。
2、分離EDI設備與其他EDI水處理設備的連接管路。
3、連接EDI清洗裝置，使清洗泵通過進水管路分別進入EDI模塊的淡水室和濃水室，再回到清洗水箱，開啟所有的進出水閥門。
4、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉和2%鹽的清洗液。
5、堿洗步驟：啟動清洗泵，分別調節(jié)濃水、進水閥，以規(guī)定的流循環(huán)清洗。
6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。
7、沖洗步驟：向清洗水箱連續(xù)注入清洗(反滲透純水設備產(chǎn)水)，啟動清洗泵連續(xù)清洗。
8、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側的水，直至與進水側電導率相近。
9、調節(jié)各個閥門，恢復原始各設計流數(shù)據(jù)。
10、停機，恢復EDI各個管路與其他系統(tǒng)的連接。
11、再生步驟：開啟PLC控制柜電源，向EDI模塊送電，進行再生，直至電阻率達到出水要求為止。
12、轉入正常運行，并做好初次運行的數(shù)據(jù)記錄。
坎普爾CP-3600S EDI模塊穩(wěn)定運行狀態(tài)
運行條件改變后，膜塊將需要運行8-24個小時才能達到穩(wěn)定狀態(tài)。
穩(wěn)定狀態(tài)是指進出膜塊的離子達到物料平衡。
如果電流降低或給水離子總量增加，拋光層樹脂將會吸收多余的離子。在這種狀態(tài)下，離開膜塊工作樹脂層的離子數(shù)將小于進入膜塊的離子數(shù)。最后達到新的穩(wěn)定狀態(tài)時，離子遷移速率和給水離子相協(xié)調。此時，離子交換樹脂的工作前沿將向出水端移動，拋光層樹脂總量減少。
如果電壓升高或給水離子濃度減小，樹脂將會釋放一些離子進入濃水，離開膜塊工作樹脂層的離子數(shù)將大于進入膜塊的離子數(shù)。最后達到新的穩(wěn)定狀態(tài)時，離子遷移速率和給水離子相協(xié)調。此時，離子交換樹脂的工作前沿將向給水端移動，拋光層樹脂總量增加。
進出膜塊的離子達到物料平衡是判斷EDI膜塊是否處于穩(wěn)定運行狀態(tài)的有效手段。
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
制藥網(wǎng) 設計制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
