Quorum K975X多用途高真空鍍膜儀

Quorum K975X多用途高真空鍍膜儀儀器簡介：
K975X渦輪蒸鍍儀是一個(gè)多用途系統(tǒng)，它具有靈活性和模塊化擴(kuò)展功能，以適應(yīng)不同的樣品制備。
它可從蒸籃和坩鍋進(jìn)行碳蒸發(fā)、金屬蒸發(fā)并且可選濺射附件。
K975X可應(yīng)用一系列成熟技術(shù)，包括鍍碳及TEM覆形，碳/金屬蒸發(fā)、低角度Shadowing和通過使用雙源蒸發(fā)進(jìn)行順序涂層，可選的濺射鍍膜附件能適用于各種靶材。
通過使用微處理控制器，更增強(qiáng)了系統(tǒng)的靈活性，用戶很容易附加各種可選件，但是這些“缺省”都是經(jīng)過優(yōu)化操作設(shè)計(jì)，使得全自動和手動操作均可實(shí)現(xiàn)操作。
*的抽屜式樣品裝載系統(tǒng)使用戶方便放入各種樣品，鉸鏈?zhǔn)巾斏w結(jié)構(gòu)很容易達(dá)到系統(tǒng)其它區(qū)域。
渦輪分子泵安裝在系統(tǒng)外部，可方便安裝及更換，它的前級真空為旋轉(zhuǎn)真空泵。 整個(gè)抽氣過程為全自動控制，達(dá)到高真空后進(jìn)行蒸發(fā)。本儀器為臺式，可方便地進(jìn)行使用控制，使用中的疏忽也不易造成損壞。

K975S半導(dǎo)體晶圓蒸鍍儀
K975S基于K975X，但是它具有特殊的裝載鎖定門，可允許放入8英寸（200mm）晶圓鍍碳，應(yīng)用于FIB。

優(yōu)點(diǎn)
● 容易操作
● 使用靈活
● 可靠的碳蒸發(fā)
● 方便的樣品裝載及卸載
● 靈活的操作，可選擇碳及金屬蒸發(fā)源
● 在排氣過程中可防止樣品損壞
● 系統(tǒng)靈活性強(qiáng)
● 很容易測量金屬或碳沉積膜厚

Quorum K975X多用途高真空鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
儀器尺寸：450mm W x 500mm D x 300mm H 
工作腔室：硼硅酸鹽玻璃，帶有鉸鏈?zhǔn)巾斏w。250mm Dia x 300mm H（樣品可達(dá)直徑200 mm即8"）
安全鐘罩：聚碳酸酯，維護(hù)時(shí)工作腔室很容易移開
重量：65Kg
碳槍：高度可調(diào)，傾斜0-20o ，使用直徑6.15mm碳棒
渦輪分子泵：100L/Second為標(biāo)準(zhǔn)配置，可選各種尺寸
真空計(jì)范圍：ATM - 1x10-7mbar
工作真空達(dá)到時(shí)間：15分鐘內(nèi)
操作真空：10-5 mbar量級（可選液氮冷阱）
蒸發(fā)源（脈沖或可變控制）：四種模式可選，低電壓
a.c. V, 5V, 15V,25V @ 25 amps. 7V @100 amps
樣品臺：0-45o可傾斜 
旋轉(zhuǎn)樣品臺（可選）：直徑60mm，傾斜0-45o，具有
15rpm 到 45rpm可變速度控制
Services –Argon（對可選濺射附件） - Nominal 4psi. 
真空泵：No. 2 泵(2m3/Hr)，complete with Vacuum Hose 
& Oil Mist Filter
電源：230V 50/60Hz (包含泵大電流為8 Amp)；
115V 50/60Hz (包含泵大電流為16 Amp)
注：In Circuits with Current Trips , when using Pulse for 
230 v a 16amp minimum for 115 v a 32 amp minimum

可選濺射附件 
濺射電流：0到100mA
沉積速率：0到50nm/分（Au）
標(biāo)準(zhǔn)靶：57mm Au（可選Pt, Pt/Pd, Pd, Cr, Ni, Cu, Ag）
定時(shí)：0到4分鐘
HT安全互鎖裝置

可選膜厚監(jiān)測系統(tǒng)
可選輝光放電

主要特點(diǎn)：
特點(diǎn)
● 全自動抽真空系統(tǒng)
● 樣品尺寸可達(dá)140毫米見方或200毫米直徑
● *的“anti-stick”碳棒蒸發(fā)機(jī)構(gòu)
● 抽屜式樣品裝載系統(tǒng)
● 可選的蒸鍍類型，具有四種蒸發(fā)設(shè)置
● 約束的或開放的排氣控制
● 可選用各種濺射靶材附件適用于一系列金屬
● 可選膜厚監(jiān)測系統(tǒng)