Quorum K1050X射頻等離子刻蝕清洗系統(tǒng)

Quorum K1050X射頻等離子刻蝕清洗系統(tǒng)

儀器簡(jiǎn)介：
K1050X等離子處理單元由固態(tài)射頻發(fā)生器結(jié)合調(diào)諧電路組成，同時(shí)兩種處理氣體流量針閥監(jiān)控，全部或部分通氣口控制。
它的腔室為圓柱形，樣品裝載為抽屜式抽拉系統(tǒng)，方便使用。
真空系統(tǒng)為旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵或可選用膜片泵作為前級(jí)真空的渦輪分子泵。
在真空裝載端口及SEM/TEM中特殊的清潔應(yīng)用時(shí)，可方便更換抽屜式抽拉系統(tǒng)。
此系統(tǒng)通常使用氧及氬的混合氣體，氧去除有機(jī)物質(zhì)（碳?xì)浠衔铮?，氬?duì)樣品表面進(jìn)行刻蝕。
應(yīng)用：
● 石棉試樣制備
● 有機(jī)材料微觀灰化
● SEM&TEM中有機(jī)樣品刻蝕
● 去除光刻膠及電子元件中的包膠
● 塑料品的表面處理
● SEM/TEM中的樣品夾清洗
● 煤的灰化

Quorum K1050X射頻等離子刻蝕清洗系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：
儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 300mm H 重量：25Kg
桶形工作腔室：‘Pyrex’160mm L x 110mm Dia.（硼硅酸鹽玻璃作為標(biāo)準(zhǔn)配置）
拉出式抽屜：樣品托盤(pán)為抽拉式
等離子輸出：射頻電源-固態(tài)150瓦射頻峰值，通常操作范圍在25到75 瓦 @ 13.56mhz.
(備注：所使用的頻率為標(biāo)準(zhǔn)組織CISPR認(rèn)可的“工業(yè)”頻率)
真空測(cè)量范圍：完整的操作真空顯示的活性計(jì)量頭ATM - 1x10-5 mbar全刻度-通常操作真空為0.5mbar到1.0mbar
數(shù)字計(jì)時(shí)單元：99.9小時(shí)選擇范圍時(shí)間顯示。在灰化過(guò)程結(jié)束后自動(dòng)終止。
雙氣體流控制：雙氣體針閥控制，可選1或2或兩種氣體（校準(zhǔn)5到 100cm3/分 空氣 @ A.T.P.）
電源：230V 50Hz (包括泵大電流5 Amp)；115V 60Hz(包括泵大電流10 Amp)
Services： Process Gas at nominal 5 psi, (0.33bar)
真空泵：No. 2 泵 (with a synthetic oil ''Fomblin'' for Oxygen or Corrosive Process Gases.) 2m3/Hr

主要特點(diǎn)：
特點(diǎn)：
● 固態(tài)射頻發(fā)生器及調(diào)諧電路
● 全自動(dòng)控制
● 抽屜式結(jié)構(gòu)
● 兩種處理氣體
● 緊湊的臺(tái)式系統(tǒng)
優(yōu)點(diǎn)：
● 低溫灰化過(guò)程
● 易操作
● 裝/卸樣品方便
● 可選擇不同的混合氣體
● 節(jié)省空間
● 注：我們建議使用No. 2泵，它具有“的油”。