SIGMA 300場發(fā)射掃描電子顯微鏡

SIGMA 300場發(fā)射掃描電子顯微鏡

世界光學(xué)品牌，可見光及電子光學(xué)的----德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其電子光學(xué)前身為LEO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋)，積掃描電鏡領(lǐng)域40多年及透射電鏡領(lǐng)域60年的經(jīng)驗(yàn)。

CARL ZEISS以其前瞻性**的設(shè)計(jì)融合歐洲*制造工藝造就了該品牌在光電子領(lǐng)域無可撼動的地位。自成立至今，一直延續(xù)不斷創(chuàng)新的傳統(tǒng)，公司擁有電鏡制造核心*的專有技術(shù)，隨著離子束技術(shù)和基于電子束的分析技術(shù)的加入、是為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業(yè)。其產(chǎn)品的高性能、高質(zhì)量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到*廣大用戶的信賴與認(rèn)可。

SIGMA 300場發(fā)射掃描電子顯微鏡【核心技術(shù)】

蔡司公司推出Sigma300場發(fā)射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)，將低電壓成像技術(shù)發(fā)揮到了，采用適宜的探針電流范圍，降低50%的信噪比從而提升了85%的襯度信息。Sigma300將高級的分析性能與場發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。Sigma自動的四步工作流程大大節(jié)省了設(shè)置與分析操作的時間，提高效率。

【技術(shù)參數(shù)】

分辨率：1.0nm@30kV STEM

1.0nm @15 kV

1.8nm @1kV

放大倍數(shù)：10-1,000,000×

加速電壓：調(diào)整范圍：0.02-30 kV(無需減速模式實(shí)現(xiàn))

探針電流： 3pA～20nA(100nA選配) 穩(wěn)定性優(yōu)于 0.2%/h

低真空范圍： 2-133Pa (Sigma 300VP可用)

樣品室： 365 mm(φ)，275mm(h)

樣品臺：5軸優(yōu)中心全自動

X=125mm

Y=125 mm

Z=50 mm

T=-10º-90º

R=360º 連續(xù)

系統(tǒng)控制：基于Windows 7的SmartSEM操作系統(tǒng)，可選鼠標(biāo)、鍵盤、控制面板控制

存儲分辨率：32k x 24k pixels

【產(chǎn)品應(yīng)用】

掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等 檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分 析和失效分析，材料實(shí)時微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶 粒取向測量。