低溫等離子除臭設(shè)備參數(shù)

低溫等離子體技術(shù)是近年發(fā)展起來的廢氣處理新技術(shù)，低溫等離子體處理廢氣的原理為： 
當外加電壓達到氣體的放電電壓時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，以達到降解污染物的目的。低溫等離子除臭設(shè)備參數(shù)

低溫等離子除臭設(shè)備工作原理：
　　采用低溫等離子體分解油霧、廢氣等污染介質(zhì)時，等離子體中的高能離子起決定性的作用。流星雨狀的高能離子與介質(zhì)內(nèi)分子（原理）發(fā)生非彈性碰量，將能量特化成基態(tài)分子（原子）的內(nèi)能，發(fā)生激發(fā)、離解、電離等一系列過程使污染介質(zhì)處于活化狀態(tài)。污染介質(zhì)在等離子體的作用下，產(chǎn)生活性自由基，活化后的污染物分子經(jīng)過等離子體定向鏈化學(xué)反應(yīng)后被脫除。當離子平均能量超過污染介質(zhì)中化學(xué)健結(jié)合能時，分子鏈斷裂，污染介質(zhì)分解，并在等離子發(fā)生器吸附場的作用下被焦收。在低溫等商子體中，可能發(fā)生各類型的化學(xué)反應(yīng)，這主要取決于等離子的平均能量、商子密度、氣體溫度、污染物介質(zhì)內(nèi)分子濃度及共存的介質(zhì)成分。
　　低溫等離子除臭設(shè)備對氣態(tài)有機污染物的降解機理：
　　有足夠的能量來產(chǎn)生自由基，引發(fā)一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)。由低溫等離子體引起的氣體有機物化學(xué)反應(yīng)是在氣相中進行的電離、離解、激發(fā)、原子、分子間的相互結(jié)合及加成反應(yīng)。這個能量足以使大多數(shù)氣態(tài)有機物中的化學(xué)鍵發(fā)生斷裂，從而使其講解。低溫等離子除臭設(shè)備參數(shù)

低溫等離子廢氣處理設(shè)備已經(jīng)還廣泛的應(yīng)用于環(huán)境保護、包裝、紡織、塑料制品、汽車制造、電子設(shè)備制造、家電制造、計算機制造、生物材料、衛(wèi)生材料、醫(yī)療器皿、殺菌消毒、環(huán)保設(shè)備、石油天然氣管道、供暖管道、化工子、半導(dǎo)體等行業(yè)中。