干燥設(shè)備 粉碎設(shè)備 混合設(shè)備 反應(yīng)設(shè)備 過濾分離設(shè)備 過濾材料 滅菌設(shè)備 萃取設(shè)備 貯存設(shè)備 傳熱設(shè)備 鍋爐 塔設(shè)備 結(jié)晶設(shè)備 其它制藥設(shè)備
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更新時間:2024-10-14 07:35:45瀏覽次數(shù):72次
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工業(yè)EDI高純水設(shè)備工業(yè)EDI高純水設(shè)備,EDI高純水設(shè)備碧??淡h(huán)??萍加邢薰旧a(chǎn)制造
工業(yè)EDI高純水設(shè)備
工業(yè)EDI高純水設(shè)備,EDI高純水設(shè)備碧??淡h(huán)保科技有限公司生產(chǎn)制造。工業(yè)EDI高純水設(shè)備要將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎****去掉,又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去至很低程度的水。電阻率約10~18.3MΩ.cm極限值。
詳細(xì)說明:
高純水水質(zhì)分為五個行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。
工業(yè)EDI高純水設(shè)備,EDI高純水設(shè)備的工藝流程:
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點(diǎn)。
EDI高純水制取設(shè)備,EDI高純水設(shè)備出水水質(zhì)符合我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn))、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)。
EDI高純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域:
近幾年電去離子在各個工業(yè)領(lǐng)域都越來越受重視,許多工業(yè)系統(tǒng)開始采用電去離子作為其水處理系統(tǒng)的換代技術(shù),如電力工業(yè)、制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、電鍍與金屬表面處理等。
(1)電力工業(yè)
據(jù)推算電力行業(yè)水處理單元的操作成本約占電力成本的10%,而用電去離子替代離子交換樹脂可以使每處理1000加侖水的成本由11美元降至1.75美元。
(2)制藥工業(yè)
雖然藥用水的特點(diǎn)是并不要求很高的去離子程度,但電去離子系統(tǒng)具有同時去鹽和控制微生物指標(biāo)的特點(diǎn),因此已有多家企業(yè)采用RO/EDI集成系統(tǒng)。據(jù)稱該類系統(tǒng)性能穩(wěn)定,全流程計算機(jī)連續(xù)監(jiān)控,全自動操作無人值守。
〔3〕電子工業(yè)
電子工業(yè)對水質(zhì)的要求,水電阻率要穩(wěn)定的大于18MΩ,而EDI出水一般在15-17 MΩ左右,因此在電子級水的生產(chǎn)過程多采用EDI+拋光樹脂系統(tǒng),即在EDI之后加離子交換,此工程雖然仍需離子交換,但由于EDI已除去了大部分離子,拋光樹脂幾乎不用再生,因此水處理費(fèi)用仍然低。
(4)電鍍與金屬表面處理
電去離子可用于電鍍廢水處理可以使水重復(fù)使用并回收重金屬離子。
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