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詳細介紹
無錫冠亞制冷加熱控溫系統(tǒng)的典型應用：
高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、
雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、
雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、
微通道反應器冷熱源恒溫控制；
小型恒溫控制系統(tǒng)、
蒸餾系統(tǒng)控溫、
材料低溫高溫老化測試、
組合化學冷源熱源恒溫控制、
半導體設備冷卻加熱、
真空室制冷加熱恒溫控制。
| 型號 | SUNDI-320 | SUNDI-420W | SUNDI-430W | |
|---|---|---|---|---|
| 介質(zhì)溫度范圍 | -30℃～180℃ | -40℃～180℃ | -40℃～200℃ | |
| 控制系統(tǒng) | 前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器 | |||
| 溫控模式選擇 | 物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇 | |||
| 溫差控制 | 設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定 | |||
| 程序編輯 | 可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟 | |||
| 通信協(xié)議 | MODBUS RTU 協(xié)議 RS 485接口 | |||
| 物料溫度反饋 | PT100 | |||
| 溫度反饋 | 設備進口溫度、設備出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度 | |||
| 導熱介質(zhì)溫控精度 | ±0.5℃ | |||
| 反應物料溫控精度 | ±1℃ | |||
| 加熱功率 | 2KW | 2KW | 3KW | |
| 制冷能力 | 180℃ | 1.5kW | 1.8kW | 3kW |
| 50℃ | 1.5kW | 1.8kW | 3kW | |
| 0℃ | 1.5kW | 1.8kW | 3kW | |
| -5℃ | 0.9kW | 1.2kW | 2kW | |
| -20℃ | 0.6kW | 1kW | 1.5kW | |
| -35℃ | 0.3kW | 0.5kW | ||
| 循環(huán)泵流量、壓力 | max10L/min 0.8bar | max10L/min 0.8bar | max20L/min 2bar | |
| 壓縮機 | 海立/泰康/思科普 | |||
| 膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥 | |||
| 蒸發(fā)器 | 丹佛斯/高力板式換熱器 | |||
| 操作面板 | 7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄 | |||
| 安全防護 | 具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。 | |||
| 密閉循環(huán)系統(tǒng) | 整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質(zhì)。 | |||
| 制冷劑 | R-404A/R507C | |||
| 接口尺寸 | G1/2 | G1/2 | G1/2 | |
| 水冷型 W 溫度 20度 | 450L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 550L/H 1.5bar~4bar G3/8 | ||
| 外型尺寸 cm | 45*65*87 | 45*65*87 | 45*65*120 | |
| 正壓防爆尺寸 | 70*75*121.5 | 70*75*121.5 | ||
| 標配重量 | 55kg | 55kg | 85kg | |
| 電源 | AC 220V 50HZ 2.9kW（max) | AC 220V 50HZ 3.3kW（max) | AC380V 50HZ 4.5kW（max) | |
| 外殼材質(zhì) | SUS 304 | SUS 304 | SUS 304 | |
| 選配 | 正壓防爆 后綴加PEX | |||
| 選配 | 可選配以太網(wǎng)接口，配置電腦操作軟件 | |||
| 選配 | 選配外置觸摸屏控制器，通信線距離10M | |||
| 選配電源 | 100V 50HZ單相，110V 60HZ 單相，230V 60HZ 單相， 220V 60HZ 三相，440V～460V 60HZ 三相 | |||
在制藥行業(yè)中，反應釜加熱冷卻控溫系統(tǒng)以其溫度控制能力、加熱和冷卻特性，為制藥的研發(fā)、生產(chǎn)和質(zhì)量控制提供支持。全密閉高低溫循環(huán)裝置 加熱恒溫裝置
一、藥研發(fā)階段的應用
在藥研發(fā)階段，反應釜加熱冷卻控溫系統(tǒng)能夠控制反應釜內(nèi)的溫度，對藥反應過程的精細控制需求。這種溫度控制有助于研發(fā)
可以根據(jù)實驗需求，設定溫度值，并通過系統(tǒng)自動調(diào)節(jié)加熱或制冷裝置，確保反應釜內(nèi)的溫度始終保持在設定范圍內(nèi)，溫度控制有助于優(yōu)化反應條件和合成效率。對于一些需要特殊溫度曲線變化的化學反應，系統(tǒng)能夠完成周期性的加熱與降溫操作。全密閉高低溫循環(huán)裝置 加熱恒溫裝置
二、藥生產(chǎn)階段的應用
在藥生產(chǎn)階段，反應釜加熱冷卻控溫系統(tǒng)同樣發(fā)揮著作用。能夠確保藥在適當?shù)臏囟葪l件下進行分離、精餾、結晶、干燥等操作。
在此過程中，通過控制反應釜內(nèi)的溫度，確保這些操作在合適的溫度范圍內(nèi)進行。反應釜加熱冷卻控溫系統(tǒng)能夠快速加熱和冷卻反應釜，有助于縮短生產(chǎn)周期。系統(tǒng)還具有高度穩(wěn)定的溫度控制能力，能夠確保在整個生產(chǎn)過程中溫度保持恒定。這種穩(wěn)定性有助于減少因溫度波動而引起的產(chǎn)品質(zhì)量問題。
反應釜加熱冷卻控溫系統(tǒng)在制藥行業(yè)中具有廣泛的應用和認可，通過控制反應釜內(nèi)的溫度，有助于藥品的研發(fā)效率和生產(chǎn)質(zhì)量，同時減少了生產(chǎn)成本。
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