動態(tài)調溫反應釜控溫系統(tǒng)-用途與特點

動態(tài)調溫反應釜控溫系統(tǒng)-用途與特點：高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制；微通道反應器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試；組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。

 

 

　　動態(tài)調溫反應釜控溫系統(tǒng)能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍廣，適用于制藥、化工、生物、實驗室行業(yè)中連接反應釜進行制冷、加熱反應的設備，特別是是高低溫體機主要功能應用于對玻璃反應釜進行升降溫、恒溫控制。

　　動態(tài)調溫反應釜控溫系統(tǒng)分為三個系統(tǒng)：制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預冷系統(tǒng)，三個系統(tǒng)可連續(xù)使用，也可分別單獨使用。

　　高低溫循環(huán)裝置適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制，線性控制釜內物料溫度，可以選擇程序控制模式，導熱介質和物料的溫差也可設定，整個高低溫體機系統(tǒng)采用全密閉式循環(huán)，高溫時不會產生油霧，低溫時不會吸收水分，系統(tǒng)中有膨脹罐，在制冷加熱過程中導熱介質熱脹冷縮。

　　高低溫循環(huán)裝置主要用途：用于雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制等溫控控制中。

　　1、化工、制藥或生物領域雙層及三層反應釜的溫度控制。

　　2、攪拌罐的溫度控制。

　　3、材料測試中的應用。

　　4、蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。

　　5、工藝過程中的溫度變化模擬控制。

　　6、恒溫控制系統(tǒng)。

　　7、半導體設備的溫度控制。

　　8、汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。

　　9、真空室的溫度控制。

動態(tài)調溫反應釜控溫系統(tǒng)-用途與特點

動態(tài)調溫反應釜控溫系統(tǒng)-用途與特點