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德國(guó)IKN管線式電子廢液研磨分散機(jī)

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  • 型號(hào) CMSD2000
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海

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更新時(shí)間:2017-08-12 21:08:53瀏覽次數(shù):1059

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詳細(xì)介紹

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 CMD2000系列研磨分散機(jī)在電子廢料處理中的作用 


    面對(duì)浮油的問題,上海依肯技術(shù)員們根據(jù)這部分客戶的需要,研發(fā)生產(chǎn)出CMD2000系列的研磨分散機(jī),將電子廢料通過清洗劑,表面活性劑處理后,在用CMD2000研磨分散機(jī)處理一邊,處理之后浮油可以乳化掉,直接排放。更有利于環(huán)境保護(hù)。


 德國(guó)IKN管線式電子廢液研磨分散機(jī)的工作原理  


    電子廢液CMD2000系列研磨分散機(jī)就是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相(液體、固體、氣體)進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常是液體)的過程。而在通常情況下各個(gè)相是互不相溶的。當(dāng)外部能力輸入時(shí),兩種物料重組成為均一相。由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來的強(qiáng)勁動(dòng)能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂等綜合作用,形成懸乳液、乳液和泡沫。從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)成熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細(xì)的分散乳化,經(jīng)過高頻的循環(huán)往復(fù),zui終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。
        

 CMD2000系管線式電子廢液研磨分散機(jī)列的特點(diǎn)  

①具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。

②該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對(duì)乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。

③三級(jí)研磨分散機(jī)由定、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
            
 設(shè)備選型表  

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

CMD2000/4

300-1,000

9,000

23

2.2

DN25

DN15

CMD2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40

DN32

CMD2000/10

8,000

4,200

23

15

DN50

DN50

CMD2000/20

20,000

3,000

23

37

DN80

DN65

CMD2000/30

40,000

1,500

23

55

DN150

DN125

CMD2000/40

70,000

1,500

23

90

DN150

DN125

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