詳細(xì)介紹
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水性環(huán)氧樹脂通常是指環(huán)氧樹脂以微粒、液滴或膠體形式分散于水相中所形成的乳液、水分散體或水溶液,三者之間的區(qū)別在于環(huán)氧樹脂分散相的粒徑不同。
水性環(huán)氧樹脂分散后可以制備水性環(huán)氧樹脂涂料,一般有四種方式,較為簡單直接的是機(jī)械法,機(jī)械法即直接乳化法,可用膠體磨、球磨機(jī)、砂磨機(jī)等設(shè)備先將固體環(huán)氧樹脂預(yù)先磨成微米級的環(huán)氧樹脂粉末,然后加入乳化劑水溶液,再通過機(jī)械攪拌將粒子分散于水中; 或?qū)h(huán)氧樹脂和乳化劑混合,加熱到適當(dāng)?shù)臏囟?,在激烈的攪拌下逐漸加入水而形成乳液。用機(jī)械法制備水性環(huán)氧樹脂乳液的優(yōu)點(diǎn)是工藝簡單,所需乳化劑用量較少,但乳液中環(huán)氧樹脂分散相微粒尺寸較大,粒子形狀不規(guī)則且尺寸分布較寬,所配得的乳液穩(wěn)定性差,粒子之間容易相互碰撞而發(fā)生凝結(jié)現(xiàn)象,并且該乳液的成膜性能也欠佳。
當(dāng)然,機(jī)械法存在的問題是可以很好的去解決的,乳液穩(wěn)定性差,可以說明兩個(gè)原因,一是水性環(huán)氧樹脂的粒徑?jīng)]有充分的細(xì)化,二是水性環(huán)氧樹脂沒有更好的分散到水中,形成穩(wěn)定的乳液。如果采用IKN高速剪切研磨分散機(jī)的話就可以解決機(jī)械法存在的問題,使得環(huán)氧樹脂微粒能較為穩(wěn)定地分散在水相中。IKN高速剪切研磨分散機(jī)簡單的將就是將IKN高剪切膠體磨和IKN高剪切分散機(jī)合二為一,形成兩級的設(shè)備,*級為膠體磨磨頭,實(shí)現(xiàn)研磨細(xì)化的功能;第二級為分散機(jī)分散盤,實(shí)現(xiàn)分散均勻的功能。
超高速水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī)設(shè)備廠家,接觸過IKN上海依肯的人都知道,IKN膠體磨和IKN分散機(jī)在行業(yè)就是較的設(shè)備,IKN膠體磨和國內(nèi)膠體磨相比、IKN分散機(jī)和國內(nèi)分散機(jī)相比都是存在巨大優(yōu)勢的,而IKN研磨分散機(jī)又是將二者結(jié)合的設(shè)備,處理效果,不言而喻。
IKN高速剪切研磨分散機(jī)有很高的線速度,以及*級磨頭,特殊上深下淺的三級磨頭結(jié)構(gòu),一次處理即可滿足細(xì)化要求。*級刀頭形狀,可以把相對大塊的物料進(jìn)行初步粉碎,以便能順利通過更細(xì)的兩級進(jìn)行細(xì)微化研磨。 磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下淺的齒列結(jié)構(gòu),相較溝槽是直線,同級的溝槽深度一樣的磨頭,可以保證物 料從上往下一直在進(jìn)行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級磨齒,但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。第二級分散盤,無論是在分散盤的結(jié)構(gòu)、還是定轉(zhuǎn)子的間隙都有比其他分散盤要精密的多。
CMD2000系列研磨分散設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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