實驗室膠體磨

實驗室膠體磨,德國實驗室膠體磨,進口,上海 是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力，透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。 
的應用
食品工業(yè)：蘆薈、菠蘿、果茶、芝麻、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、乳制品，麥乳精、香精、各種飲料等。 
化學工業(yè)：油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、電池漿料、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、電子漿料等。 
日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂等。 
醫(yī)藥工業(yè)：各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、靜滴液等。 
建筑工業(yè)：各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 
其它工業(yè)：塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等行業(yè)優(yōu)質(zhì)環(huán)保的生產(chǎn)需要。 

膠體磨的特點
CM2000/4 膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 CM2000/ 膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。 CM2000/4 膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。   的細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。 物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。  公司另外一項*的創(chuàng)新，就是錐體磨CMO2000系列，它的設計使其功能在原有的CM2000的基礎上又進了一步。由于這項創(chuàng)新，CMO2000能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調(diào)節(jié)，從而可以得到精確的研磨參數(shù)。研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。      CM2000/4（LP系列）為的技術參數(shù)：
功率1.5-2.2KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機器產(chǎn)量為 0– 700 升/小時（水），重量35KG,尺寸 (長寬高）(450X250X350)MM，LP使用軸封（PTFE 環(huán)），在正常的情況下，一般軸封可以使用3000-4000次。LP不能24小時連續(xù)使用，一般多可以使用連續(xù)半個小時，這要依據(jù)料液的溫度和轉(zhuǎn)速而定。LP也可以通過變換模塊，可以實現(xiàn)多功能多用途。此款膠體磨比普通的膠體磨的速度達到4-5倍以上，研磨效果非常好，高轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。是中試生產(chǎn)的優(yōu)秀選擇。   的粉碎效果分析 影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點  2 膠體磨磨頭頭的剪切速率 （越大，效果越好） 3 膠體磨頭的齒形結(jié)構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好） 4 物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好） 5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）  線速度的計算 剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。  剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)  g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：  轉(zhuǎn)子的線速率 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm   速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60 所以轉(zhuǎn)速越高,研磨粉碎越好,所以那家膠體磨好 上海依肯 膠體磨