蒙脫石混懸液研磨均質(zhì)機(jī)

蒙脫石混懸液研磨均質(zhì)機(jī)，如果采用IKN研磨均質(zhì)機(jī)的話，不僅可以對(duì)蒙脫石混懸液粒徑進(jìn)行細(xì)化，還可以將混懸液均質(zhì)的更均勻。這取決于上海依肯研磨均質(zhì)機(jī)的特殊設(shè)計(jì)，IKN研磨均質(zhì)機(jī)將膠體磨和均質(zhì)機(jī)合二為一，先研磨細(xì)化粒徑，再對(duì)物料進(jìn)行均質(zhì)，使蒙脫石混懸液更加細(xì)膩、均勻、穩(wěn)定。

蒙脫石混懸液研磨均質(zhì)機(jī)，醫(yī)藥混懸液均質(zhì)機(jī)，蒙脫石混懸液均質(zhì)機(jī)，醫(yī)藥研磨均質(zhì)機(jī)，高剪切均質(zhì)機(jī)，超細(xì)均質(zhì)機(jī)

蒙脫石是由顆粒極細(xì)的含水鋁硅酸鹽，較早的資料就有資料記載其具有藥用效果，如在《本草綱目拾遺》中介紹膨潤土可用于治療外傷和解毒，并將其歸納為中藥的一種。蒙脫石混懸液由主藥蒙脫石、助懸劑、矯味劑等組成，用于治療腹瀉及消化道潰瘍等*。其具有服用劑量準(zhǔn)確、服用攜帶方便、粒度較細(xì)、服用后可快速均質(zhì)到人體消化道、效果更好等多種優(yōu)點(diǎn)。鑒于此，我們擬將蒙脫石制備成混懸劑以克服上述蒙脫石散劑的缺點(diǎn)?；鞈乙旱闹苽湓瓌t首先是使粉粒潤濕并在液體均質(zhì)介質(zhì)中均勻均質(zhì)，保持一定條件使其盡量不聚集，然后采取一定的措施防止結(jié)塊。
 
制備方法通常混懸液的有兩種：均質(zhì)法和凝聚法。由于蒙脫石本身的性質(zhì)我們采用的是均質(zhì)法，混懸液中微粒的大小不僅關(guān)系到混懸液的質(zhì)量和穩(wěn)定性，也會(huì)影響混懸液的藥效和生物利用度。所以測(cè)定混懸液中微粒大小及其分布，是評(píng)定混懸液質(zhì)量的重要指。由于本研究的蒙脫石采用的是法國益普生公司研制的商品名為思密達(dá)的蒙脫石散劑，故其微粒大小符合要求，無需測(cè)其微粒大小。
                 

蒙脫石混懸液研磨均質(zhì)機(jī)，當(dāng)蒙脫石混懸液的工藝配方確定時(shí)，為了降低沉降系數(shù)，我們可以通過減小粒子的半徑來縮小沉降系數(shù)。

蒙脫石混懸液粒徑的細(xì)化，取決于均質(zhì)設(shè)備的選擇。如果采用IKN研磨均質(zhì)機(jī)的話，不僅可以對(duì)蒙脫石混懸液粒徑進(jìn)行細(xì)化，還可以將混懸液均質(zhì)的更均勻。這取決于上海依肯研磨均質(zhì)機(jī)的特殊設(shè)計(jì)，IKN研磨均質(zhì)機(jī)將膠體磨和均質(zhì)機(jī)合二為一，先研磨細(xì)化粒徑，再對(duì)物料進(jìn)行均質(zhì)，使蒙脫石混懸液更加細(xì)膩、均勻、穩(wěn)定。

CMD2000系列研磨均質(zhì)設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨均質(zhì)乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變更為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料均質(zhì)乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。更多信息請(qǐng)包。

CMD2000系列研磨均質(zhì)機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式均質(zhì)機(jī)是由錐體磨,均質(zhì)機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

        
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。均質(zhì)頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

 

           
CMD2000系列研磨均質(zhì)機(jī)的特點(diǎn)：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

，醫(yī)藥混懸液均質(zhì)機(jī)，蒙脫石混懸液均質(zhì)機(jī)，醫(yī)藥研磨均質(zhì)機(jī)，高剪切均質(zhì)機(jī)，超細(xì)均質(zhì)機(jī)