實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力，透過(guò)定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

      膠體磨的細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要弱于均質(zhì)機(jī)，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場(chǎng)合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。

LP2000/4 （膠體磨塊）
功率	2.2KW
轉(zhuǎn)速	0-14000rpm
線速度	0-40m/s
尺寸（長(zhǎng)X寬X高）	（450X250X3500）mm
重量	30KG
操作條件	0-2.5bar

CM2000/4實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨是專門(mén)為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 CM2000/4實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。 CM2000/4實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     公司另外一項(xiàng)*的創(chuàng)新，就是錐體磨CMO2000系列，它的設(shè)計(jì)使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進(jìn)了一步。由于這項(xiàng)創(chuàng)新，CMO2000能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無(wú)級(jí)調(diào)節(jié)，從而可以得到精確的研磨參數(shù)。
研磨頭的表面涂上了一層極其堅(jiān)硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個(gè)具有強(qiáng)烈剪切的區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。

PP 2000/4 （膠體磨塊）
功率	2.2KW
轉(zhuǎn)速	0-14000rpm
線速度	0-40m/s
尺寸（長(zhǎng)X寬X高）	（450X250X900）mm
重量	45KG
操作條件	-1 -8bar

 

LP2000/4 （膠體磨塊）
功率	2.2KW
轉(zhuǎn)速	0-14000rpm
線速度	0-40m/s
尺寸（長(zhǎng)X寬X高）	（450X250X3500）mm
重量	30KG
操作條件	0-2.5bar