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詳細介紹
OX400低濃度氧化鋯氧分析儀
低濃度氧化鋯氧分析儀OX400的氧化鋯傳感器中采用了薄膜沉積技術(shù)，在氧化鋯元素和鉑層間建立了分子聯(lián)接。
這樣不僅預(yù)防剝離，還可以減小傳感器尺寸，確保高速響應(yīng)和長壽命。
低濃度氧化鋯氧分析儀OX400可用于控制和監(jiān)視各種半導(dǎo)體應(yīng)用，并控制環(huán)境，空氣泄漏入惰性氣體及其他過程。
用于半導(dǎo)體擴散爐和烘干爐，以及LCD制造工藝中的氧氣濃度控制
用于控制錫焊爐氣流和回流爐中氣體的氧氣濃度，以及電子制造中使用的手套箱和氣體生產(chǎn)工藝中氧氣濃度的測量
測量氧氣濃度，防止粉塵運輸中粉塵爆炸
特性使用壽命長，響應(yīng)速度快
由于使用了橫河電機的薄膜沉積技術(shù)，傳感器的壽命周期提高了三倍圓柱形傳感器設(shè)計便于置換被測氣體，確保高速響應(yīng)
高性能和高可靠性
即使在低氧濃度下，仍具有的精度和線性在不同應(yīng)用中，可選擇泵式或抽提采樣方式
內(nèi)置功能和多種自診斷功能
自帶多選擇器，自動量程，特定量程以及泵開/關(guān)功能提供多種自診斷功能，以檢測故障，如加熱器溫度錯誤，溫度傳感器斷偶和傳感器電阻值錯誤
出眾的維護性
可現(xiàn)場更換傳感器小型輕量，易于安裝
規(guī)格
| 測量對象 | 惰性氣體中的氧氣濃度 (易燃性氣體、二氧化硅、腐蝕性氣體或液體(包括水蒸氣)除外) | ||||||||
| 測量系統(tǒng) | 氧化鋯系統(tǒng) | ||||||||
| 采樣方法 | 泵式，抽提式等 | ||||||||
| 樣氣條件 | 流速: 200 ± 25ml/min(僅用于傳感器) 溫度: 0~50℃(無結(jié)露) 濕度: 無結(jié)露 壓力: 0~300PaG 大容許壓力: 30kPaG | ||||||||
| 測量量程 | 0-10ppm O2至0-100vol% O2 | ||||||||
| 輸出量程 |
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| 模擬輸出 | 2路輸出， 一次: 4～20mA DC(大負載電阻: 550Ω) 二次: 可選為0~1，0~5，0~10V DC(負載電阻: 10kΩ或更大) | ||||||||
| 接點輸出 |
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| 接點輸入 | 1點: 采樣氣體吸入泵的遠程ON/OFF | ||||||||
| 自診斷 |
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| 串口通信 | RS-232，38400 bps | ||||||||
| 方法 | (1)3點: 10ppm，1000ppm，空氣，(2)2點: 可設(shè)定為零點氣和量程氣，(3)1點，(4)空氣 | ||||||||
| 暖機時間 | 20分以內(nèi) | ||||||||
| 電源 | 100 - 120V AC/220 - 240V AC，50/60Hz | ||||||||
| 功耗 | 100～120V AC，200VA 大，220～240V AC，400 VA 大 | ||||||||
| 尺寸 | 213 (W) x 132 (H) x 約375 (D) mm | ||||||||
| 質(zhì)量 | 約5kg | ||||||||
| 管線連接 | 氣體入口: Rc1/4或1/4NPT內(nèi)螺紋 氣體出口: Rc1/4或1/4NPT內(nèi)螺紋 | ||||||||
| 環(huán)境條件 |
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| 符合的**標準 和EMC標準 |
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特性
| 重復(fù)性 | ±1%F.S.(10，100，1000 ppm，1%，10%或) |
| 線性 | ±2%F.S. ±3%F.S.(0~100ppm或更低) |
| 響應(yīng)時間 | 90%響應(yīng) 10秒內(nèi)(0~1%或更高) 30秒內(nèi)(小于0~1%) |
| 漂移 | ±2%F.S./周 |
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