射頻水處理器

射頻水處理器原理

射頻水處理器利用特定頻譜的射頻式電磁波使水分子排列有序阻止鈣鎂離子形成晶核，從而達(dá)到防垢的目的。射頻波還可以與舊垢形成共振，從而達(dá)到除垢。電子水處理技術(shù)是當(dāng)今世界水工業(yè)的，也是一種非常實用的技術(shù)。40年代中期，比利時首先采用該技術(shù)用于改善水質(zhì)，60年代后，該技術(shù)在發(fā)達(dá)國家廣泛應(yīng)用于人類生活的各個方面，在我國該技術(shù)應(yīng)用較遲。
射頻水處理器作用:
電子水處理器的水在微弱電流作用下，水分子的電子被激勵，使之處于高能位狀態(tài)。由于電子能位上升，水分子電位下降，使水中溶解鹽類離子或帶電粒子因電子引力減弱不能相互集聚或產(chǎn)生化學(xué)結(jié)合，而大體均勻地分散于水中不致粘附或集聚于器壁，從而防止器壁結(jié)垢，對于結(jié)垢的系統(tǒng)由于水中有大量被激勵的電子，它們將破壞垢的分子結(jié)構(gòu)，使積垢逐漸剝蝕～直至清除。水中的細(xì)菌，藻類因電子水處理的破壞而不能存活起到殺菌滅藻的功能，一般除垢率95％，殺菌率90％，滅藻率可打100％結(jié)構(gòu)：GQ型電子水處理儀由三部分組成： 水處理器：其殼體為活性陰極，由無縫鋼管經(jīng)活化處理而成，殼體中心裝有一根惰性陽極，被處理介質(zhì)通過金屬陽極與殼體之間的環(huán)狀空間流入用水設(shè)備。 犧牲陽極：犧牲陽極由含鋅合金材料制成，裝設(shè)犧牲陽極可大大提高陰極殼體的防腐能力。電子發(fā)生器：它是供水處理器產(chǎn)生電子場的電源。適用系統(tǒng)： 熱交換冷卻水系統(tǒng) 制冷、空調(diào)冷卻水系統(tǒng) 供熱、采暖、浴室等熱水系統(tǒng) 地?zé)崴?、溫泉水供水系統(tǒng) 濱海和海上作業(yè)利用海水的冷卻循環(huán)水系統(tǒng)一般腐蝕性液體處理系統(tǒng)
適用介質(zhì)：
冷水、熱水、地?zé)崴?、溫泉水、海水及一般腐蝕性液體
適用行業(yè)：
普及面非常廣，涉及到化工、冶金、橡膠、輕工、電子、飲食、制藥、生活暖等各個領(lǐng)域?；?、冶金、石油、機械、電子、煤炭。建材、紡織、醫(yī)藥、輕工業(yè)等行業(yè)及賓館、醫(yī)院、學(xué)校等民用部門。
特點：
不僅能防止結(jié)垢，還能清除原有積垢；具有顯著的殺菌滅藻和防腐功能；節(jié)能節(jié)水、毫無污染； 適用水溫度范圍廣，安裝管理簡便，運行費用極低；性能穩(wěn)定，。
技術(shù)參數(shù)：
處理水質(zhì)范圍：總硬度<600mg／L(以CaC03計)
工作水溫：0~105℃
工作壓力：1.6MPa(大于1.6MPa特殊訂貨)
輸入電源：~220V；50HZ
有效范圍：2000m
選型：GQ系列電子水處理儀采用國家標(biāo)準(zhǔn)無縫鋼管和標(biāo)準(zhǔn)法蘭盤，

在選用時請注意以下幾點：
1、水經(jīng)處理后，有效時間為6小時，以3小時作設(shè)計參考。
2、一般情況下，以水處理儀前管道尺寸作為出入口尺寸來選擇 水處理儀器。其流量按同口經(jīng)管道進行計算流量。
3、有下列情況之一的，請用大一規(guī)格水處理儀<1>非循環(huán)系統(tǒng)通過水處理儀流速大于2．8m／秒。<2)水質(zhì)硬度大于800mg／L(以CaC03計)。<3>用水設(shè)備溫度很高。 安裝注意事項：<1>新設(shè)備可直接安裝水處理儀。<2>結(jié)垢不嚴(yán)重的設(shè)備可直接安裝水處理儀，不必清洗。<3>安全堵塞的管道，必須清洗然后再安裝電子水處理儀。運行注意事項：<1)主機部分出廠前已經(jīng)技術(shù)部門調(diào)整完畢，用戶不可調(diào)整主機。<2)儀器可連續(xù)運行。<3)在運行過程中，系統(tǒng)需要排污。全封閉循環(huán)系統(tǒng)一個月排污一次，半封閉循環(huán)系統(tǒng)每半個月排污一次，鍋爐系統(tǒng)每班(8小時)排污一次，排污水量總?cè)萘康?．5-1％。
售后服務(wù)：
1)本產(chǎn)品一律實行一年內(nèi)非人為損壞免費保修，終身維修。
2)使用本水處理儀三個月后，經(jīng)檢查達(dá)不到除垢，防垢的效果后，負(fù)責(zé)退貨、退款或保換。
除垢儀功能參數(shù)：　　
防垢效率≥98％　
除垢效率≥95％　　
適應(yīng)水質(zhì)：總硬度700mg／l　　
壓力損失：0.007～0.01Mpa　　
工作電源：190～250V　　
安全絕緣電壓：5000V　　
工作環(huán)境要求：－25℃～＋50℃　
相對濕度≤90％　　
工作介質(zhì)溫度：－25℃～＋90℃　　
平均時間：不小于50000小時