高溫氣固催化原位TXAS裝置-500

簡介：

高溫氣固催化原位TXAS裝置（HTC-TXAS-500）是一款專門為研究高溫氣固相催化反應(yīng)過程而設(shè)計(jì)的原位測試裝置。該裝置采用加熱爐方式對催化劑進(jìn)行加熱，樣品加熱溫度更加均勻、準(zhǔn)確。該原位裝置度可設(shè)置成500℃。該裝置配備進(jìn)出氣孔，能夠?qū)ρb置整體進(jìn)行氣氛保護(hù)，同時(shí)受益于氣路設(shè)計(jì)，能夠保證氣體始終有效通過催化劑。因采用的透射模式進(jìn)行數(shù)據(jù)采集，裝置兩側(cè)均設(shè)置了X射線窗口（此處窗口可多種選擇）。更高和更均勻的溫度體系讓用戶能夠在更多的應(yīng)用場景中選擇對自己合適的反應(yīng)參數(shù)來進(jìn)行原位觀測，是這一原位裝置的優(yōu)勢所在。

主要特點(diǎn)：

1. 該原位裝置適用于高溫氣固相催化反應(yīng)體系，并能夠在反應(yīng)過程中在線采集同步輻射X射線吸收譜數(shù)據(jù)（透射）；

2. 該裝置加熱溫度范圍：RT-500℃，溫度控制精度：±1℃；

3. 樣品尺寸大?。?/span>φ6-10mm，厚度可根據(jù)樣品吸收進(jìn)行微調(diào)：<=2mm；

4. 該裝置配備進(jìn)出氣孔，能夠?qū)w系進(jìn)行氣氛保護(hù)，并保證氣體有效通過樣品；

5. 該裝置采用透射模式采集XAFS數(shù)據(jù)，兩側(cè)X射線窗口可有多種選擇，如高純Be窗、Kapton膜等；

6. 該裝置能夠很好的匹配各同步輻射光源的X射線吸收譜線站；

7. 該裝置溫控系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)，能夠保證裝置外殼溫度不高于60℃。