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萊馳Retsch研磨儀 XRD-Mill McCrone

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更新時(shí)間:2023-03-30 13:05:10瀏覽次數(shù):333

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XRD-MillMcCrone專為X射線衍射(XRD)分析的樣品制備而研發(fā),主要應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)、化學(xué)、礦物學(xué)、材料科學(xué)、質(zhì)量控制以及研發(fā)等

詳細(xì)介紹

       XRD-Mill McCrone專為X射線衍射(XRD)分析的樣品制備而研發(fā),主要應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)、化學(xué)、礦物學(xué)、材料科學(xué)、質(zhì)量控制以及研發(fā)等。

XRD-Mill McCrone具有的研磨方式:研磨塊的運(yùn)動(dòng)為線性撞擊和平面剪切兩種方式,所以研磨時(shí)間短,幾乎沒(méi)有樣品損失,得到特別窄的粒徑分布。晶格在研磨過(guò)程中幾乎保留。 研磨容器是一個(gè)125 ml容量的聚丙烯罐,配一個(gè)無(wú)墊圈螺帽的聚乙烯蓋。研磨罐被48個(gè)有序排列的圓柱形研磨塊充滿,材質(zhì)有瑪瑙,氧化鋯和剛玉。的磨時(shí)間是在3-30分鐘,典型的樣品體積是在2-4 ml之間。


應(yīng)用實(shí)例

       borides, clay, mica, nitrides, slate, 建筑原料, 植物原料, 水泥, 玻璃, 礦物, 碳化物, 金屬, 陶瓷, 骨頭


優(yōu)點(diǎn)

研磨過(guò)程中晶格被保留。

粒徑分布窄。

幾乎沒(méi)有交叉污染。

緊湊、桌面型機(jī)型

可調(diào)研磨功率(4步)

適合于干磨和濕磨。

清洗方便。

免維護(hù)。

運(yùn)行安靜。


應(yīng)用

搗磨、混和與研磨制樣;干磨或濕磨

應(yīng)用領(lǐng)域

X-ray diffraction

樣品特征

中硬性, 硬的, 脆性的, 含纖維的

進(jìn)樣尺寸

<0.5毫米

最終出料粒度 *

< 1 µm

網(wǎng)頻50赫茲(60赫茲)下的轉(zhuǎn)速

1,000 - 1,500 min-1 4步

研磨平臺(tái)數(shù) (可接納研磨罐數(shù))

1

典型粉碎時(shí)間

3 - 30 min

干磨

濕磨

低溫研磨

-

研磨套件材料:

瑪瑙, 氧化鋯, 金剛石

研磨罐尺寸

125 ml

粉碎時(shí)間設(shè)定

數(shù)字顯示,00:00:01 至 99:59:50

驅(qū)動(dòng)

DC-Motor

驅(qū)動(dòng)功率

50W

電源數(shù)據(jù):

220-240 V, 50/60 Hz

電源接頭:

單相

防護(hù)類型

IP 30

接受功率

100W

機(jī)體尺寸(寬x高x縱深)

205 x 155 x 520 mm

凈重

~19 kg

標(biāo)準(zhǔn)

CE



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