勻膠顯影機

產(chǎn)品介紹：

名 稱：勻膠顯影機

型 號：SC200-DE

原產(chǎn)地：

應(yīng) 用：SC200-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作，又可用于半導(dǎo)體顯影和清洗的臺面式設(shè)備，它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備（track）的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。

產(chǎn)品概述：

　　SC200-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作，又可用于半導(dǎo)體顯影和清洗的臺面式設(shè)備，它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備（track）的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。
　　不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀；工業(yè)級別400瓦伺服電機系統(tǒng)，采用與track設(shè)備相同設(shè)計和程序，使您的工藝更具有實際應(yīng)用意義；同類產(chǎn)品中的達到50000RPM/S的旋轉(zhuǎn)加速度，確保勻膠和顯影的穩(wěn)定性和的可重復(fù)性。

性能參數(shù)：

n 主機機箱采用不銹鋼材料（抗化學(xué)腐蝕易清潔）

n 旋涂程序：最多可存100組程序，每組100步，每個步驟可精確到0.1秒

n 轉(zhuǎn)動速度：0-5,000rpm（更高速可選）

n 旋涂加速度：0-10,000rpm/sec（空載）

n 馬達旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1rpm

n 轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<1rpm，重復(fù)性< 1rpm

n 工藝時間設(shè)定： 0-3,000 sec/step，時間設(shè)置精度：0.1sec

n 支持wafer尺寸1cm-300mm（12“圓晶）

n 標準配置兩路噴液系統(tǒng)（顯影液和去離子水）

產(chǎn)品特點：

l 主機在SC200-SE勻膠機上升級，增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋

l 全程序編輯功能，更方便的智能化操作，更好的顯影/清洗效果

l 可實現(xiàn)最多獨立四路噴液用于顯影/清洗工作，或進行氮氣吹干

l 控制器可實現(xiàn)程序自動控制噴液或進行手動操作，使用更加方便

l 顯影系統(tǒng)可進行噴霧式、柱流式多種選擇，視要求進行配置

l 提供客戶定制化的顯影系統(tǒng)配置和工裝設(shè)計

l 高可靠性和重復(fù)性，高轉(zhuǎn)速精度和更高轉(zhuǎn)速可選

l 可添加去邊膠和背膠清洗功能

咨詢或索取詳細產(chǎn)品資料，請聯(lián)系ANALYSIS（安賽斯）工作人員。

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