高真空粉末樣品原位工作站

裝置概述

本裝置為配備分子泵機組的高真空固體粉末樣品原位反應(yīng)及處理工作站，適用于固體粉末樣品的高真空、高低溫處理、原位反應(yīng)及樣品轉(zhuǎn)移，廣泛應(yīng)用于固體核磁共振和光譜分析等化學(xué)分析的樣品預(yù)處理。提供高通量的樣品處理環(huán)境，可以實現(xiàn)樣品真空脫氣處理、高低溫處理、流動氣氛加熱反應(yīng)以及粉末樣品定量吸附探針分子，亦可以實現(xiàn)吸附分子的在線儀器分析等功能。

技術(shù)參數(shù)

-　樣品加熱溫度：500oC

-　極限真空度：-10-4Pa

-　氣體流量控制：0-100 ml/min

-　無油真空系統(tǒng)：液氮冷井隔離

-　真空原位樣品轉(zhuǎn)移：原位樣品處理和裝填