大平臺(tái)明暗場(chǎng)型 TGP-60C

一、用途： TGP-60C大平臺(tái)明暗場(chǎng)硅片檢測(cè)顯微鏡是適用于對(duì)太陽(yáng)能電池硅片的顯微觀察。本儀器配有大移動(dòng)范圍的載物臺(tái)、落射照明器、長(zhǎng)工作距離的平場(chǎng)消色差物鏡、大視野目鏡，圖像清晰、襯度好，同時(shí)配有偏光裝置，及其高像素的數(shù)碼攝像頭.本儀器配有暗場(chǎng)物鏡,使觀察硅片時(shí)圖像更加清晰,是檢測(cè)太陽(yáng)能電池硅片的金字塔 的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析的理想儀器. 硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的......

一、用途：

    TGP-60C大平臺(tái)明暗場(chǎng)硅片檢測(cè)顯微鏡是適用于對(duì)太陽(yáng)能電池硅片的顯微觀察。本儀器配有大移動(dòng)范圍的載物臺(tái)、落射照明器、長(zhǎng)工作距離的平場(chǎng)消色差物鏡、大視野目鏡，圖像清晰、襯度好，同時(shí)配有偏光裝置，及其高像素的數(shù)碼攝像頭.本儀器配有暗場(chǎng)物鏡,使觀察硅片時(shí)圖像更加清晰,是檢測(cè)太陽(yáng)能電池硅片的”金字塔” 的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析的理想儀器.

硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析.雜質(zhì)包括: 顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無(wú)機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等，造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象，使磨片不合格. 是太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)過(guò)程中的檢測(cè)儀器之一.

 

二、技術(shù)參數(shù)

1.目鏡

類 別	放大倍數(shù)	視場(chǎng)(mm)
大視野目鏡	10X	φ18

  2.物鏡

類 型	放大倍數(shù)	數(shù)值孔徑NA	工作距離（mm）
長(zhǎng)工作距離平場(chǎng)消色差物鏡	5X(明場(chǎng))	0.12	18.3
	10X(明暗場(chǎng))	0.25	8.9
	20X(明暗場(chǎng))	0.40	8.7
	40X(明暗場(chǎng))	0.60	3.7
	80X(明場(chǎng))	0.80	0.96

3.光學(xué)放大倍數(shù)：50X -- 800X     系統(tǒng)參考放大倍數(shù)：50X-5000X
4.濾色片組：黃色、藍(lán)色、綠色、磨砂玻璃
5.偏光裝置：可插入式起偏振片和三目頭內(nèi)置檢偏振片
6.載物臺(tái)：三層機(jī)械移動(dòng)式(配有快速移動(dòng)裝置)  尺寸：274*274mm
7.粗微同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu)，微動(dòng)手輪格值：0.002mm
8.落射照明器：6V/20W鹵素?zé)?，亮度可調(diào)
9.防霉：*的防霉系統(tǒng)

10.成像系統(tǒng):500萬(wàn)高像素的數(shù)字?jǐn)z像頭

 

三、系統(tǒng)組成

大平臺(tái)硅片檢測(cè)顯微鏡(TGP-60C): 1.顯微鏡 2.適配鏡 3、500萬(wàn)高像素?cái)z像頭4、計(jì)算機(jī)(選配)

                              

四、總放大參考倍數(shù)

   電腦型硅片檢測(cè)顯微鏡(TGP-60C)：50--5000倍 （17寸顯示器為例）

 

五、選購(gòu)件  

 1.硅片測(cè)量軟件TX-3000C   2.目鏡： 20X 10X(帶刻度) 

 

電腦型硅片顯微鏡 TGP-60C