產(chǎn)品場發(fā)射掃描電子顯微鏡

型號(hào):Sigma 系列

產(chǎn)品介紹：

Sigma 系列產(chǎn)品用于高品質(zhì)成像與高級(jí)分析的場發(fā)射掃描電子顯微鏡.
靈活的探測，4步工作流程，高級(jí)的分析性能
將高級(jí)的分析性能與場發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，利用成熟的 Gemini 電子光學(xué)元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。Sigma 半自動(dòng)的4步工作流程節(jié)省大量的時(shí)間：設(shè)置成像與分析步驟，提高效率。
Sigma 300 性價(jià)比高。Sigma 500 裝配有*的背散射幾何探測器，可快速方便地實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)分析。任何時(shí)間，任何樣品均可獲得精準(zhǔn)可重復(fù)的分析結(jié)果。
用于清晰成像的靈活探測
利用探測術(shù)為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
利用新一代的二次探測器，獲取高達(dá)50%的信號(hào)圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創(chuàng)新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環(huán)境下獲取高達(dá)85%對(duì)比度的銳利的圖像。
自動(dòng)化加速工作流程
4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓(xùn)首先，先對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。
首先，先對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。
接下來對(duì)樣品感興趣的區(qū)域進(jìn)行優(yōu)化并自動(dòng)采集圖像。*后使用工作流程的*后一步，將結(jié)果可視化。
高級(jí)分析型顯微鏡
將掃描電子顯微鏡與基本分析相結(jié)合：Sigma *的背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對(duì)電子束敏感的樣品。
在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據(jù)。
獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結(jié)果。
基于成熟的 Gemini 技術(shù)
Gemini 鏡頭的設(shè)計(jì)結(jié)合考慮了電場與磁場對(duì)光學(xué)性能的影響，并將場對(duì)樣品的影響降至更低。這使得即使對(duì)磁性樣品成像也能獲得出色的效果。
Gemini in-lens 的探測確保了信號(hào)探測的效率，通過二次檢測(SE)和背散射(BSE)元件同時(shí)減少成像時(shí)間。
Gemini 電子束加速器技術(shù)確保了小的探測器尺寸和高的信噪比。
用于清晰成像的靈活探測
利用新的探測技術(shù)表征所有的樣品。
在高真空模式下利用創(chuàng)新的      ETSE 和 in-lens 探測器獲取形貌和高分辨率的信息。
在可變壓力模式下利用可變壓力二次電子和 C2D 探測器獲取銳利的圖像。
利用 aSTEM 探測器生成高分率透射圖像。
利用 BSD4 或者 YAG 探測器進(jìn)行成份分析。
Sigma 300 可提供
集成式 EDS 解決方案:在低能量分析應(yīng)用中同時(shí)實(shí)現(xiàn)高清晰度成像
Sigma Element 是一種集成式 EDS 解決方案，擁有高可用性和低電壓靈敏度。僅需使用一臺(tái)計(jì)算機(jī)來控制 EDS 和 SEM，進(jìn)而大大提升了該集成化解決方案的易用性。同時(shí)，借助專門為顯微鏡和 EDS 操作設(shè)計(jì)的用戶界面可實(shí)現(xiàn)并行控制。
? 集成化：通過集成化，結(jié)合高清晰成像與快速分析，從而獲得不錯(cuò)結(jié)果
? 定制化：根據(jù)不同的用戶需求定制軟件
? 靈敏度：的氮化硅窗口增強(qiáng)低能X射線的探測靈敏度
拉曼成像與掃描電鏡聯(lián)用系統(tǒng):集成化的拉曼成像
獲取樣品中化學(xué)結(jié)構(gòu)的指紋信息：聚焦拉曼光譜成像可擴(kuò)展您的蔡司Sigma 300 掃描電鏡性能。 分析獲得樣品分子結(jié)構(gòu)和結(jié)晶信息。 通過拉曼成像與EDS數(shù)據(jù)可進(jìn)行3D 分析并與SEM圖像關(guān)聯(lián)。集成化的拉曼成像掃描電鏡聯(lián)用系統(tǒng)使你充分發(fā)揮SEM和拉曼系統(tǒng)的功能。

技術(shù)參數(shù)

型號(hào): Sigma 300

分辨率:1.0nm@30kV STEM、1.0nm @15 kV 、 1.8nm @1kV
放大倍數(shù)∶10-1,000,000x

加速電壓:調(diào)整范圍:0.02-30 kV(無需減速模式實(shí)現(xiàn))
探針電流:3pA~20nA ( 100nA選配)穩(wěn)定性優(yōu)于0.2%/h
低真空范圍:2-133Pa ( Sigma 300VP可用)

樣品室:365 mm ( p ) ,275mm ( h )

樣品臺(tái)∶5軸優(yōu)中心全自動(dòng)X=125mm V=125 mm Z=50 mm T=-10o-90o R=360o連續(xù)
系統(tǒng)控制∶基于Windows 7的SmartSEM操作系統(tǒng)，可選鼠標(biāo)、鍵盤、控制面板控制

存儲(chǔ)分辨率:32k x 24k pixels