集成電路用超純水設(shè)備生產(chǎn)廠家

 集成電路用超純水設(shè)備生產(chǎn)廠家集成電路用超純水設(shè)備生產(chǎn)廠家

集成電路用超純水設(shè)備

一、集成電路用超純水設(shè)備系統(tǒng)概述

      集成電路電路板生產(chǎn)過(guò)程中，FPC/PCB濕流程絕大部分工藝都是相似的。各個(gè)工藝環(huán)節(jié)對(duì)純水的要求也是大同小異。我們?cè)诩呻娐飞a(chǎn)過(guò)程中常用到的電鍍銅，錫，鎳金；化學(xué)鍍鎳金；PTH/黑孔；表面處理蝕刻等生產(chǎn)過(guò)程都需要用到不同要求的純水。因?yàn)榫€路板生產(chǎn)過(guò)程中使用的藥水不同，生產(chǎn)工藝流程的差異，對(duì)純水的品質(zhì)要求也不一樣。最關(guān)鍵的指標(biāo)是：電導(dǎo)率（電阻率），總硅，pH值，顆粒度。線路板、電路板用純水因?yàn)楸旧砉に嚵鞒痰牟煌瑢?duì)純水制造的工藝流程也不同。按照目前絕大部分集成電路線路板廠的使用情況來(lái)看，大概分為以下三種類(lèi)型：預(yù)處理加離子交換純水系統(tǒng)。

      集成電路用超純水設(shè)備系統(tǒng)采用當(dāng)今先jin的全自動(dòng)雙級(jí)反滲透+EDI+拋光混床超純水處理技術(shù)，前置預(yù)處理配套使用加反滲透處理，有效去除水中各種鹽份及雜質(zhì)，然后運(yùn)用EDI及拋光混床系統(tǒng)，進(jìn)一步提升水質(zhì)，使出水達(dá)到用水工藝要求；系統(tǒng)采用全自運(yùn)控制，該設(shè)備具有產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定、操作簡(jiǎn)便、運(yùn)行費(fèi)用低、維護(hù)方便等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于集成電路等工業(yè)水處理等相關(guān)行業(yè)。

二、集成電路用超純水設(shè)備系統(tǒng)工藝流程

      集成電路超純水設(shè)備系統(tǒng)采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級(jí)處理四大步驟，多級(jí)過(guò)濾、高性能離子交換單元、超濾過(guò)濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達(dá)18.25MΩ*cm

1、采用離子交換方式，其流程如下：

      原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→陽(yáng)樹(shù)脂過(guò)濾床→陰樹(shù)脂過(guò)濾床→陰陽(yáng)樹(shù)脂混床→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

2、采用兩級(jí)反滲透方式，其流程如下：

      原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→第yi級(jí)反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級(jí)反滲透（反滲透膜表面帶正電荷）→純化水箱→純水泵→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

3、采用EDI方式，其流程如下：

      原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

標(biāo)準(zhǔn)參考

      顯像管、液晶顯示器用純水水質(zhì)（經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)）

      集成電路用純水水質(zhì)

      國(guó)家電子級(jí)純水標(biāo)準(zhǔn)

      國(guó)家電子級(jí)純水標(biāo)準(zhǔn)

      中國(guó)國(guó)家電子級(jí)超純水規(guī)格 GB/T 11446.1-1997