EDI設(shè)備的原理：
供給原水進(jìn)入EDI系統(tǒng)，主要部分流入樹脂/膜內(nèi)部，而另一部分沿膜板外側(cè)流動(dòng)，以洗去透出膜外的離子
被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運(yùn)動(dòng)，陽離子向負(fù)極方向運(yùn)動(dòng)
陽離子透過陽離子膜，排出樹脂/膜之外
陰離子透過陰離子膜，排出樹脂/膜之外
濃縮了的離子從廢水流路中排出。
無離子水從樹脂/膜內(nèi)流出。
EDI設(shè)備簡介：
EDI又稱邊續(xù)電除鹽技術(shù)，它科學(xué)地將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)融為一體，通過陽、陰離子膜對(duì)陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對(duì)水中離子的交換作用，在電場(chǎng)的作用下實(shí)現(xiàn)水中離子的定向遷移，從而達(dá)到水的深度凈化除鹽，并通過水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對(duì)裝填樹脂進(jìn)行連續(xù)再生，因此EDI制水過程不需要酸、堿化學(xué)藥品再生即可連續(xù)制取高品質(zhì)超純水，它具有技術(shù)、結(jié)構(gòu)緊湊、操作簡便的優(yōu)點(diǎn)，可廣泛應(yīng)用于電力、電子、醫(yī)藥、化工、食品和實(shí)驗(yàn)室領(lǐng)域，是水處理技術(shù)的綠色革命。通常把EDI與反滲透及其它的凈水裝置結(jié)合在一起從水中去除離子。EDI組件可以連續(xù)地生產(chǎn)超純水，電阻率高達(dá)18.2Ω. cm.EDI可以連續(xù)地運(yùn)行也可以間歇地運(yùn)行。
EDI設(shè)備的有點(diǎn)：
出水水質(zhì)具有的穩(wěn)定度
能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水
模塊化生產(chǎn)，并可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制
不需酸堿再生，無污水排放
不會(huì)因再生而停機(jī)
無需再生設(shè)備和化學(xué)藥品儲(chǔ)運(yùn)
設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小
運(yùn)行成本和維修成本低
運(yùn)行操作簡單，運(yùn)動(dòng)強(qiáng)度低
電子級(jí)水是制造電子元器件工藝過程中所用的高純水。
主要用途：
n 超純材料和超純?cè)噭┑纳a(chǎn)和清洗
n 電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗
n 電池產(chǎn)品的生產(chǎn)
n 半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗
n 電路板的生產(chǎn)和清洗
n 其他高科技精細(xì)產(chǎn)品的生產(chǎn)
產(chǎn)水水質(zhì)：分為四個(gè)級(jí)別
n EW-Ⅰ：18MΩ?cm（95%時(shí)間不低于17MΩ?cm）
n EW-Ⅱ：15MΩ?cm（95%時(shí)間不低于13MΩ?cm）
n EW-Ⅲ：12MΩ?cm
n EW-Ⅳ：0.5MΩ?cm
主要制水工藝：
n 預(yù)處理+陽床+陰床+混床（傳統(tǒng)工藝）
n 預(yù)處理+（單/雙級(jí)）反滲透+混床（傳統(tǒng)工藝）
n 預(yù)處理+（單/雙級(jí)）反滲透+EDI電除鹽（流行工藝）
n 預(yù)處理+雙級(jí)反滲透+EDI電除鹽+拋光混床（流行工藝）
設(shè)備特點(diǎn)：
利用膜工藝生產(chǎn)電子級(jí)水，不僅可以確保處理后的水達(dá)到中國國家電子級(jí)超純水規(guī)格 GB/T 11446.1-1997標(biāo)準(zhǔn)，而且避免了傳統(tǒng)方法可能造成的環(huán)境污染，操作復(fù)雜，并能有效地降低水處理成本。
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