XRD-Mill McCrone專為X射線衍射（XRD）分析的樣品制備而研發(fā)，主要應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)、化學(xué)、礦物學(xué)、材料科學(xué)、質(zhì)量控制以及研發(fā)等。
XRD-Mill McCrone具有的研磨方式：研磨塊的運(yùn)動(dòng)為線性撞擊和平面剪切兩種方式，所以研磨時(shí)間短，幾乎沒有樣品損失，得到特別窄的粒徑分布。
晶格在研磨過程中幾乎保留。
研磨容器是一個(gè)125 ml容量的聚丙烯罐，配一個(gè)無(wú)墊圈螺帽的聚乙烯蓋。研磨罐被48個(gè)有序排列的圓柱形研磨塊充滿，材質(zhì)有瑪瑙，氧化鋯和剛玉。的磨時(shí)間是在3-30分鐘，典型的樣品體積是在2-4 ml之間。
應(yīng)用實(shí)例
硼化物，粘土，云母，氮化物，石板， 建筑原料, 植物原料, 水泥, 玻璃, 礦物, 碳化物, 金屬, 陶瓷, 骨頭
優(yōu)點(diǎn)
研磨過程中晶格被保留。
粒徑分布窄
幾乎沒有交叉污染。
緊湊、桌面型機(jī)型
可調(diào)研磨功率(4步)
適合于干磨和濕磨。
清洗方便。
免維護(hù)。
運(yùn)行安靜。
性能指標(biāo)
| 應(yīng)用 | 搗磨、混和與研磨制樣；干磨或濕磨 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | X-ray diffraction |
| 樣品特征 | 中硬性, 硬的, 脆性的, 含纖維的 |
| 進(jìn)樣尺寸 | <0.5毫米 |
| 最終出料粒度 * | < 1 µm |
| 網(wǎng)頻50赫茲（60赫茲）下的轉(zhuǎn)速 | 1,000 - 1,500 min-1 4步 |
| 研磨平臺(tái)數(shù) (可接納研磨罐數(shù)) | 1 |
| 典型粉碎時(shí)間 | 3 - 30 min |
| 干磨 | 是 |
| 濕磨 | 是 |
| 低溫研磨 | - |
| 研磨套件材料： | 瑪瑙, 氧化鋯, 金剛石 |
| 研磨罐尺寸 | 125 ml |
| 粉碎時(shí)間設(shè)定 | 數(shù)字顯示，00:00:01 至 99:59:50 |
| 驅(qū)動(dòng) | DC-Motor |
| 驅(qū)動(dòng)功率 | 50W |
| 電源數(shù)據(jù)： | 220-240 V, 50/60 Hz |
| 電源接頭： | 單相 |
| 防護(hù)類型 | IP 30 |
| 接受功率 | 100W |
| 機(jī)體尺寸（寬x高x縱深） | 205 x 155 x 520 mm |
| 凈重 | ~19 kg |
| 標(biāo)準(zhǔn) | CE |
性能指標(biāo)
XRD-Mill McCrone主要依靠摩擦力研磨樣品。48個(gè)圓柱形的研磨塊在罐內(nèi)排成8排，每排6件。
在運(yùn)行過程中，罐子做圓周運(yùn)動(dòng)，研磨塊把樣品從小于0.5 mm研磨到亞微米水平（通常小于10 um）。
由于研磨過程很溫和，所以晶格可以完整保留。這使得XRD-Mill McCrone成為X射線衍射分析樣品制備的。
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