RTP-Ⅱ-CSS-150是一款6英寸近距離旋轉蒸發(fā)鍍膜爐,腔體采用高真空不銹鋼,此款設備可用于蒸發(fā)或CSS鍍膜實驗,氧化物、半導體或者太陽能基片退火實驗,其載樣臺尺寸為Φ150,頂部載樣臺可以旋轉提高鍍膜均勻度。此款高溫爐的加熱原件是兩組紅外燈管(分別位于頂部和底部)。升溫速率是20℃/S
CSS
| 型號 | RTP-Ⅱ-CSS-150 | |
視頻 | |||
溫度 | 900℃ | ||
電源電壓 | AC三相380V | ||
功率 | 16KW | ||
腔體結構和真空室
| 雙加熱器,兩個溫度控制器,可單獨控溫 | ||
真空腔體采用304不銹鋼結構,正前方帶有直徑100mm的觀察窗 | |||
真空法蘭由304不銹鋼制成 | |||
法蘭由硅膠O型圈密封,可通過機械泵實現(xiàn)1Pa的真空壓力 | |||
加熱器和樣品架
| 兩組短波紅外燈作為加熱原件,用于快速加熱 | ||
兩個加熱器之間的距離可在10~60mm之間調節(jié) | |||
上下加熱器之間配備擋板 | |||
上加熱器可旋轉,轉速為0~30rpm | |||
加熱器由不銹鋼制成,帶有水冷夾套,可減少熱輻射并實現(xiàn)快速冷卻 | |||
6英寸圓形晶圓支架內置頂部加熱器,可裝載基板 | |||
采用導熱率較高的氮化鋁板陶瓷片(直徑6英寸×0.5mm厚)作為載樣臺,以達到較好的加熱均勻性 | |||
兩個英國進口歐陸3204數(shù)字溫度控制器,控溫精度±1℃,可獨立控制頂部和底部加熱器 | |||
測溫方式 | 兩根K型熱電偶,一根測上加熱臺,一根測下加熱臺 | ||
控溫方式 | 采用歐陸3204程序控溫儀表 1、高精度的溫度儀表,LCD液晶顯示屏,5位數(shù)值顯示,通過快速設置配置簡單,C/F單位切換 2、1組程序8步,共4組程序 3、具有過溫保護 斷偶保護,過溫或斷偶時電爐加熱電路自動切斷,,(當電爐溫度超過900度或熱電偶燒斷時,主電路上的交流繼電器會自動斷開,主電路斷開,面板上ON燈熄滅,OFF燈亮,有限的保護電爐)。 4、支持各種通訊接口 Modbus, Ethernet, Profibus,Devicenet,可以與任意PLC或上位系統(tǒng)集成 5、具有斷電保護功能,即斷電后再給電啟動爐子時、程序不是從起始溫度開始升、而是從斷電時爐溫開始升。 6、儀表具有溫度自整定的功能
歐陸儀表 | ||
工作溫度 | 每個加熱器溫度≤900℃,兩個加熱器之間的溫差≤300℃ | ||
真空泵 | 機械泵型號:BSV30 | ||
抽速:8L/s | |||
功率:1.1KW | |||
冷水機 CW6200
| 電源 | 3PH-380V/50HZ | |
總功率 | 8KW | ||
揚程 | 30M | ||
冷凍水量 | 2.8m3/h | ||
水箱容量 | 110L | ||
制冷量 | 13244Kcal/h | ||
出入水口 | Rp1/2’’ | ||
機器尺寸 | 1300×650×1145(長X寬X高) |
真空蒸鍍設備主要由真空室和抽真空系統(tǒng)組成,真空室內有蒸發(fā)源(即蒸發(fā)加熱器)、基片及基片架、基片加熱器、排氣系統(tǒng)等。
將鍍膜材料置于真空室內的蒸發(fā)源中,在高真空條件下,通過蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā),當蒸氣分子的平均自由程大于真空室的線性尺寸以后,膜材蒸氣的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出后,很少受到其他分子或原子的碰撞與阻礙,可直接到達被鍍的基片表面上,由于基片溫度較低,膜材蒸氣粒子凝結其上而成膜。
為了提高蒸發(fā)分子與基片的附著力,可以對基片進行適當?shù)募訜峄螂x子清洗使其活化。真空蒸發(fā)鍍膜從物料蒸發(fā)、運輸?shù)匠练e成膜,經歷的物理過程如下:
(1)利用各種方式將其他形式的能量轉換成熱能,加熱膜材使之蒸發(fā)或升華,成為具有一定能量(0.1~0.3eV)的氣態(tài)粒子(原子、分子或原子團):
(2)氣態(tài)粒子離開膜材表面,以相當?shù)倪\動速度基本上無碰撞的直線輸運到基片表面;
(3)到達基片表面的氣態(tài)粒子凝聚形核后生長成固相薄膜;
(4)組成薄膜的原子重組排列或產生化學鍵合