型號 | SUNDI-125 SUNDI-125W | SUNDI-135 SUNDI-135W | SUNDI-155 SUNDI-155W | SUNDI-175 SUNDI-175W | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W | |||||||
介質溫度范圍 | -10℃～+200℃ | ||||||||||||
控制系統(tǒng) | 前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器 | ||||||||||||
溫控模式選擇 | 物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇 | ||||||||||||
溫差控制 | 設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定 | ||||||||||||
程序編輯 | 可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟 | ||||||||||||
通信協(xié)議 | MODBUS RTU 協(xié)議 RS 485接口 | ||||||||||||
外接入溫度反饋 | PT100或4～20mA或通信給定（默認PT100) | ||||||||||||
溫度反饋 | 設備導熱介質 進口溫度、出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度 | ||||||||||||
導熱介質溫控精度 | ±0.5℃ | ||||||||||||
反應物料溫控精度 | ±1℃ | ||||||||||||
加熱功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
制冷量 kW | 200℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | ||||||
20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
-5℃ | 1.5 | 2.1 | 3.3 | 4.2 | 6 | 9 | |||||||
流量壓力 max L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 50 | 75 | |||||||
2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 | ||||||||
壓縮機 | 海立 | 艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機 | |||||||||||
膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥 | ||||||||||||
蒸發(fā)器 | 丹佛斯/高力板式換熱器 | ||||||||||||
操作面板 | 7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄 | ||||||||||||
安全防護 | 具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。 | ||||||||||||
密閉循環(huán)系統(tǒng) | 整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質。 | ||||||||||||
制冷劑 | R-404A/R507C | ||||||||||||
接口尺寸 | G1/2 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | |||||||
水冷型 W 溫度 20度 | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2 | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | |||||||
外型尺寸(水）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | |||||||
外形尺寸 (風）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 70*100*175 | |||||||
隔爆尺寸(風) cm | 45*110*130 | 45*110*130 | 45*110*130 | 55*120*170 | 55*120*170 | 55*120*170 | |||||||
正壓防爆(水）cm | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 120*110*195 | |||||||
常規(guī)重量kg | 115 | 165 | 185 | 235 | 280 | 300 | |||||||
電源 380V 50HZ | AC 220V 50HZ 3.6kW | 5.6kW | 7.5kW | 10kW | 13kW | 20kW | |||||||
選配風冷尺寸cm | / | 50*68*145 | 50*68*145 | 50*68*145 | / | / | |||||||
制藥高低溫恒溫循環(huán)裝置應用以及優(yōu)勢
制藥高低溫恒溫循環(huán)裝置應用以及優(yōu)勢
制藥高低溫恒溫循環(huán)裝置主要運用于化學反應工藝， 對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，適合在反應過程中有需熱、放熱過程中在實驗室/小試/中試以及工藝生產中得到廣泛的應用。
1、無錫冠亞制藥高低溫恒溫循環(huán)裝置具有較寬的溫度控制范圍，可滿足用戶各種需求。
2、采用*的平衡調溫方式，具有穩(wěn)定平衡的加熱能力，可進行準確、高穩(wěn)定的溫度控制；溫度用觸摸屏顯示，直觀易讀，精
3、可通過調節(jié)溫度誤差值，滿足您更為準確的試驗條件。
4、制藥高低溫恒溫循環(huán)裝置具有隨溫度的設定數(shù)值自動選擇運轉制冷的功能，操作簡單。
5、制藥高低溫恒溫循環(huán)裝置具有高溫開機功能，能在箱內溫度升到150度時可開啟制冷機，便于在高溫、低溫之間連續(xù)進行往返試驗。
6、具有自我診斷功能、冷凍機過載保護、高壓壓力開關、過載繼電器、熱保護裝置等多種保障機能，充分保證使用。
7、升溫、降溫、系統(tǒng)*獨立可提效率，降低測試成本，增長使用時間，減低故障率。
8、制冷系統(tǒng)中，冷凝采用風冷方式。
制藥高低溫恒溫循環(huán)裝置具有*的熱力學溫度控制系統(tǒng)，溫度控制準確，結果重復性好。加熱和制冷的速率快，溫度范圍寬，無需更換導熱液體。
無錫冠亞的各種設備的原理以及參數(shù)僅供參考，不同客戶實際拿到的設備是按照自己的工況需求與參數(shù)設計生產出來的，設備配置、價格以及型號存在一定的差異，具體以銷售聯(lián)系溝通為準。
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