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KRI 霍爾離子源 eH 1000伯東代理

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公司名稱伯東企業(yè)（上海）有限公司
品牌其他品牌
型號(hào)
所在地上海市
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
更新時(shí)間2021/12/28 14:49:06
訪問(wèn)次數(shù)247

產(chǎn)品標(biāo)簽:

離子源射頻離子源中和器自動(dòng)控制器離子束

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

　伯東企業(yè)(上海)有限公司專業(yè)代理各國(guó)真空產(chǎn)品位于中國(guó)上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月，是日本伯東株式會(huì)社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè)，公司注冊(cè)資金為200萬(wàn)美元，到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。

　　伯東企業(yè)(上海)有限公司 ()專業(yè)銷售及維修德國(guó)Pfeiffer單雙級(jí)旋片泵，干泵，羅茨泵，分子泵；應(yīng)用于各種條件下的真空測(cè)量(真空計(jì), 真空規(guī)管)；檢漏儀，質(zhì)譜儀，真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚，保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國(guó)Pfeiffer原廠測(cè)試設(shè)備及調(diào)整工具和德國(guó)Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師，多年來(lái)致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等，具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識(shí)，并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測(cè)設(shè)備對(duì)維修后的產(chǎn)品做*性能測(cè)試。另外公司還代理美國(guó)Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機(jī)和美國(guó)KRI 離子源，HVA 高真空閥門。

　　公司一直堅(jiān)持品質(zhì)*、信譽(yù)*的原則，為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務(wù)。到目前為止已先后通過(guò)了美國(guó)UL安全認(rèn)證、ISO9001-2000質(zhì)量體系認(rèn)證、ISO14001-1996環(huán)境體系認(rèn)證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本，不斷開(kāi)拓進(jìn)取的精神，為滿足客戶的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團(tuán)化發(fā)展。

展開(kāi)顯示更多內(nèi)容

氦質(zhì)譜檢漏儀,分子泵,原子力顯微鏡,高低溫測(cè)試機(jī),離子源,真空閥門

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上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.

KRI 霍爾離子源 eH 1000伯東代理產(chǎn)品信息

KRI 霍爾離子源 eH 1000
上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.
尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體

KRI 霍爾離子源 eH 1000 特性:
• 可拆卸陽(yáng)極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時(shí), 大限度地減少停機(jī)時(shí)間; 即插即用備用陽(yáng)極
• 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
• 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便; 無(wú)需水冷
• 高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

KRI 霍爾離子源 eH 1000 技術(shù)參數(shù):

型號(hào)	eH1000 / eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO
供電	DC magnetic confinement
- 電壓	40-300V VDC
- 離子源直徑	~ 5 cm
- 陽(yáng)極結(jié)構(gòu)	模塊化
電源控制	eHx-30010A
配置	-
- 陰極中和器	Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode
- 離子束發(fā)散角度	> 45° (hwhm)
- 陽(yáng)極	標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved
- 水冷	前板水冷
- 底座	移動(dòng)或快接法蘭
- 高度	4.0'
- 直徑	5.7'
- 加工材料	金屬電介質(zhì) 半導(dǎo)體
- 工藝氣體	Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors
- 安裝距離	10-36”
- 自動(dòng)控制	控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架; Sidewinder

KRI 霍爾離子源 eH 1000 應(yīng)用領(lǐng)域:
• 離子輔助鍍膜 IAD
• 預(yù)清洗 Load lock preclean
• 預(yù)清洗 In-situ preclean
• Direct Deposition
• Surface Modification
• Low-energy etching
• III-V Semiconductors
• Polymer Substrates

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