在半導體工業(yè)中漂洗水里所含的有機化合物會影響產(chǎn)品的產(chǎn)量和質量。因此規(guī)定水中的總有機碳(TOC)污染物的含量不得超過百萬分之一(ppb),即在此應用中只能適用超純水。
紫外照射技術發(fā)展使其成功地引入半導體、制藥、化妝品,保健品等工業(yè)的超純水制造中,此項技術不僅在消毒方面發(fā)揮巨大作用,在降低TOC,去除臭氧和氯方面也*。
制藥業(yè)和其他行業(yè)的生產(chǎn)過程,由于生產(chǎn)工藝要求易造成微生物污染和生物污染,而紫外線可以作為一道有效的屏障,確保純化水水質不對任意生產(chǎn)工藝或階段產(chǎn)生影響,同時確保工藝下游的處理設備也運行,從而減少停機頻次或時間。
在這一應用使用兩種UV波長,254nm和185nm,254nm波長的紫外光用于消毒作用,同事能破壞水中殘留臭氧分子。185nm輻射能分解有機物分子,他比254nm波長能量更高。能從水分子中分解出自由羥基,從而將有機物氧化分解成CO2和水,從而降低了水中的TOC含量。
產(chǎn)品介紹:
高強度臭氧紫外線殺菌燈,SUS304不銹鋼材質,具有良好的殺菌效果,有效減少對超純水的影響。
安全可靠:設備耐壓0.6MPa,防護等級IP68,紫外零泄漏,
安裝簡單,設備維護方便,現(xiàn)場人員即能完成操作和維護。
沒有任何化學物質的參與,不影響產(chǎn)品的穩(wěn)定性。不會含有任何不需要的化學殘留物、顏色或者氣味。