對(duì)于很多材料在深冷回火一體爐內(nèi)加熱除了要生成氧化物、氫化物、氮化物外,非該設(shè)備中加熱的材料還會(huì)吸收氣體并向內(nèi)部擴(kuò)散,使材料的性能嚴(yán)重惡化。這些氧化、還原、脫碳、增碳、吸氣甚至產(chǎn)生腐蝕等弊病,有時(shí)在可控氣氛爐或者鹽浴爐中也難以避免,而真空熱處理爐可以在很多時(shí)候避免這些弊病。真空熱處理實(shí)質(zhì)上是在稀薄的該設(shè)備氣氛中進(jìn)行熱處理,該設(shè)備內(nèi)氣體分析表明,爐內(nèi)殘存的氣體是H2Q、O2、CO2以及油脂等有機(jī)物蒸汽。深冷回火一體爐內(nèi)由于這些氣體的含量非常少,其分壓力很低,不足以使被處理的材料產(chǎn)生氧化、還原、脫碳、增碳等反應(yīng),所以材料表面的化學(xué)成分和原來(lái)的表面光亮度可保持不變。
深工業(yè)冰箱-觸摸屏深冷分離箱-硬質(zhì)合金深冷去應(yīng)力爐有兩個(gè)特點(diǎn):
1、高真空氣氛的化學(xué)活性低,因此,利用該設(shè)備進(jìn)行熱處理爐時(shí),氣相與固相界面上發(fā)生的反應(yīng),如氧化、還原、脫碳、增碳等,不會(huì)進(jìn)行到有影響的程度;
2、該設(shè)備內(nèi)的高真空氣氛使氣體體積增大的變化非常迅速,可使材料放出溶解的氣體或者氧化物發(fā)生分解。正是由于該設(shè)備內(nèi)高真空氣氛的這兩個(gè)特點(diǎn),在該設(shè)備高真空氣氛中,氧分壓很低,氧化作用被抑制。因此,為了達(dá)到無(wú)氧化的目的,必須是該設(shè)備內(nèi)氧的分壓力低于氧化物的分解壓力。
當(dāng)爐內(nèi)有大量碳黑沉積時(shí),會(huì)破壞爐內(nèi)的滲碳反應(yīng)過(guò)程,影響碳勢(shì)控制穩(wěn)定性,影響加熱元件的熱傳遞,降低爐內(nèi)構(gòu)件的使用壽命。爐內(nèi)出現(xiàn)較多積碳時(shí)應(yīng)及時(shí)燒掉,建議三周左右燒一次碳黑,如果積碳黑速度較快,應(yīng)適當(dāng)縮短燒碳黑的周期。
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觸摸屏深冷分離箱-硬質(zhì)合金深冷去應(yīng)力爐
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