實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力，透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
膠體磨的細(xì)化作用一般來說要弱于均質(zhì)機(jī)，但它對物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。
| LP2000/4 （膠體磨塊） | |
| 功率 | 2.2KW |
| 轉(zhuǎn)速 | 0-14000rpm |
| 線速度 | 0-40m/s |
| 尺寸（長X寬X高） | （450X250X3500）mm |
| 重量 | 30KG |
| 操作條件 | 0-2.5bar |
公司另外一項(xiàng)*的創(chuàng)新，就是錐體磨CMO2000系列，它的設(shè)計(jì)使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進(jìn)了一步。由于這項(xiàng)創(chuàng)新，CMO2000能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級(jí)調(diào)節(jié)，從而可以得到精確的研磨參數(shù)。
研磨頭的表面涂上了一層極其堅(jiān)硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個(gè)具有強(qiáng)烈剪切的區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。
| PP 2000/4 （膠體磨塊） | |
| 功率 | 2.2KW |
| 轉(zhuǎn)速 | 0-14000rpm |
| 線速度 | 0-40m/s |
| 尺寸（長X寬X高） | （450X250X900）mm |
| 重量 | 45KG |
| 操作條件 | -1 -8bar |
| LP2000/4 （膠體磨塊） | |
| 功率 | 2.2KW |
| 轉(zhuǎn)速 | 0-14000rpm |
| 線速度 | 0-40m/s |
| 尺寸（長X寬X高） | （450X250X3500）mm |
| 重量 | 30KG |
| 操作條件 | 0-2.5bar |
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