碳納米管硅凝膠漆連續(xù)式研磨分散機(jī)

碳納米管硅凝膠漆連續(xù)式研磨分散機(jī)，在線式碳納米管硅凝膠漆研磨分散機(jī)，在線式硅凝膠研磨分散機(jī)，高速硅凝膠研磨分散機(jī)，超高速硅凝膠研磨分散機(jī)，高剪切硅凝膠研磨分散機(jī)

硅凝膠簡(jiǎn)介

有機(jī)硅凝膠在電子工業(yè)上廣泛用作電子元器件的防潮、偷運(yùn)、絕緣的涂覆及灌封材料，對(duì)電子元件及組合件起防塵、防潮、防震及絕緣保護(hù)作用。如采用透明凝膠灌封電子元器件,不但可起到防震防水保護(hù)作用，還可以看到元器件并可以用探針檢測(cè)出元件的故障，進(jìn)行更換，損壞了的硅凝膠可再次灌封修補(bǔ)?！　?/span>

有機(jī)硅凝膠由于純度高，使用方便，又有一定的彈性，因此是一種理想的晶體管及集成電路的內(nèi)涂覆材料,可提高半導(dǎo)體器件的合格率及可靠性；有機(jī)硅凝膠也可用作光學(xué)儀器的彈性粘接劑。

碳納米管的應(yīng)用十分廣泛，不僅應(yīng)用于橡膠、工程塑料、合成樹脂等復(fù)合材料上用于提高材料應(yīng)力水平，還可用于導(dǎo)電材料，電磁屏蔽材料，鋰電池、燃料電池、膠體鉛酸電池的電極改性，以及新型高速光電傳感器 。

碳納米管硅凝膠漆連續(xù)式研磨分散機(jī)就是研磨分散機(jī)是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相(液體、固體)進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過(guò)程的設(shè)備的設(shè)備。當(dāng)其中一種或者多種材料的細(xì)度達(dá)到微米數(shù)量級(jí)時(shí)，甚至納米級(jí)時(shí)，體系可被認(rèn)為均質(zhì)。當(dāng)外部能量輸入時(shí)，兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機(jī)由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來(lái)的強(qiáng)勁動(dòng)能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液），乳液（液體/液體）和泡沫（氣體/液體）。高剪切均質(zhì)機(jī)從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細(xì)的分散乳化，經(jīng)過(guò)高頻高剪切分散研磨分散機(jī)的循環(huán)往復(fù)，zui終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。  

CMD2000系列產(chǎn)品與傳統(tǒng)的設(shè)備對(duì)比：

1、傳統(tǒng)設(shè)備需要8小時(shí)的分散過(guò)程，CMD2000設(shè)備1小時(shí)就可以完成，更加高效、節(jié)能。

2、傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn)，帶有分散功能的每分鐘轉(zhuǎn)速也在1500轉(zhuǎn)之內(nèi)，而CMD2000系列每分鐘轉(zhuǎn)速可達(dá)到5000-6000轉(zhuǎn)，更加快速。超高的線速度產(chǎn)生的剪切力，使物料瞬間細(xì)化分散，從而獲得更高品質(zhì)的產(chǎn)品。

CMD2000系列與同類設(shè)備的對(duì)比：

1、發(fā)熱問(wèn)題。同類設(shè)備在加工過(guò)程中，高粘物料進(jìn)入腔體后，因背壓力大而輸送效果差，導(dǎo)致物料在設(shè)備腔體中停留時(shí)間過(guò)長(zhǎng)而導(dǎo)致嚴(yán)重發(fā)熱。CMD2000系列設(shè)備在確保效果的基礎(chǔ)上，減小了背壓阻力，提高了輸送能力，減少了停留時(shí)間，降低了物料發(fā)熱的狀況。

2、多層多向剪切分散。同類設(shè)備定、轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構(gòu)單一，多級(jí)多層的結(jié)構(gòu)只是單純的重復(fù)性加工，相同的齒槽結(jié)構(gòu)易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過(guò)工作腔的短路現(xiàn)象。CMD2000系列定、轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切的概念，裝配式結(jié)構(gòu)使物料得到不同方向的剪切分散，杜絕短路現(xiàn)象，超細(xì)分散更加*。